二次电子像的衬度主要取决于试样的表面形貌二次电子的发射率随原子序数的变化不是很明显，如图a所示，它主要取决于试样的表面形貌。它是入射电子与试样中核外电子碰撞，使试样表面的核外电子被激发出来所产生的电子。当这些代表试样表面结构特征的电子被相应的探测器收集后作为扫描电镜的成像信号，其所成的像就称为二次电子像。二次电子像的衬度主要取决干试样表面与入射电子束所构成的倾角，而对于表面
天津生物样品电镜测试
二次电子像的衬度主要取决于试样的表面形貌
二次电子的发射率随原子序数的变化不是很明显，如图a所示，它主要取决于试样的表面形貌。它是入射电子与试样中核外电子碰撞，使试样表面的核外电子被激发出来所产生的电子。当这些代表试样表面结构特征的电子被相应的探测器收集后作为扫描电镜的成像信号，其所成的像就称为二次电子像。二次电子像的衬度主要取决干试样表面与入射电子束所构成的倾角，而对于表面有一定形貌的试样，其形貌被看成由许许多多与入射电子束构成不同倾斜角度的微小形貌，如凸点、尖峰、台阶、平面、凹坑、裂纹和孔洞等细节所组成。
扫描电镜能谱一体机内部集成了用于分析样品元素组分的能谱仪
扫描电镜能谱一体机是光学表征仪器产品的全，用户通过一台设备就可以实现形貌表征及元素分析功能。研究样品时，得到样品的形貌信息只是解决了一半问题。获得样品的元素组分信息往往也是非常必要的。
扫描电镜能谱一体机内部集成了用于分析样品元素组分的能谱仪。对于很多既需要观察表面形貌又要检测表面元素组分分布的用户非常适用，既减轻了用户单次设备采购成本，又具有体积小、集成化高、故障率低、易于使用维护等诸多优点。
扫描电子显微镜SEM参数
扫描电子显微镜SEM 基本参数
放大率：通过控制扫描区域的大小来控制放大率的。如果需要更高的放大率，只需要扫描更小的一块面积就可以了。放大率由屏幕/照片面积除以扫描面积得到
场深：扫描电子显微镜SEM中，位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的会焦而成象。这一小层的厚度称为场深，通常为几纳米厚，所以，SEM可以用于纳米级样品的三维成像。
工作距离：工作距离指从物镜到样品高点的垂直距离。如果增加工作距离，可以在其他条件不变的情况下获得更大的场深。 如果减少工作距离，则可以在其他条件不变的情况下获得更高的分辨率。通常使用的工作距离在5毫米到10毫米之间。
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