水电镀因工艺较简单，从设备到环境得要求均有真空离子镀苛刻，从而被广泛应用.但水电镀有个弱点，只能镀ABS料和ABS+PC料（此料镀的效果也不是很理想）。而ABS料耐温只有80℃,这使得它的应用范Χ被限制了。而真空电镀可达200℃左右，这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了。真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求。简单一点，就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过
手机配件IP电镀厂
水电镀因工艺较简单，从设备到环境得要求均有真空离子镀苛刻，从而被广泛应用.但水电镀有个弱点，只能镀ABS料和ABS+PC料（此料镀的效果也不是很理想）。而ABS料耐温只有80℃,这使得它的应用范Χ被限制了。而真空电镀可达200℃左右，这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了。真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求。简单一点，就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术。
PVD技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下采用物理方法，将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、扛氧化、防辐射、装饰等特殊功能的薄膜材料的技术。用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是主流的两种PVD 镀膜方式。
卷绕式真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2μm，可以在这个范围内选择，有的还可以镀多层膜，满足多种需要。日本提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室(6)分为上室(7)，左下室(8)和右下室(9)。蒸镀时，两组蒸发源(19、23)蒸发的镀膜材料(21、25)分别沉积在塑料薄膜(11)上，在塑料薄膜没有蒸镀的一侧，装上辉光放电发生器(15、16)。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜，用于制磁带和薄膜太阳能电池等
（作者： 来源：）
