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用于 A12 芯片的基本 7nm 工艺称为 N7，而其中一个改进版 7nm 工艺称为 N7+，该工艺对一些芯片层使用 EUV（极紫外）光刻技术，使芯片具有更好的密度（在相同的区域逻辑增加约 20%）和电力效率（约 10%）。
台积电还有一个名为 N7P 的「性能增强」版的 7nm 工艺，它并不使用 EUV，只是 A12 中使用的 7nm 工艺的调整和优化版本。此前的传言中，A13 被认为采用 N7P 工艺，台积电表示，在同样的性能下，它可降低 10% 的功率，提高 7% 的性能。
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