佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解.
真空镀膜机操作程序
旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12，当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时，再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。
当高压真空表“5”内指针逆时针移动超过6.7P
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佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解.
真空镀膜机操作程序
旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12，当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时，再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。
当高压真空表“5”内指针逆时针移动超过6.7Pa时，开工件旋转钮开关，钟罩内被镀件PVDF膜转动。
开蒸发钮开关。把电流分插塞插入蒸发电极分配孔内（设有1、 2、 3、 4孔，可插入任意一孔）。
镀膜材料或蒸气流入射速度极高，一般磁控溅射及蒸发镀金属原子入射速度均在2000米/秒左右。每炉镀膜时间（金属原子累积入射沉淀时间）一般在15-20分钟左右，磁控溅射视工艺不同有所区别。什么是真空镀膜技术在真空条件下利用某种方法，在固体表面上镀一层与基体材料不同的薄层材料，也可以用固体本身生成一层与基体不同的薄层材料。每炉产能以普通翻盖手机外壳为例约450-800PCS/炉不等，产品大小不同，每炉产能不同。
真空镀膜的形式
溅射镀膜（sputtering）：用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。通常将欲沉积的材料制成板材-靶，固定在阴极上，可溅射W. Ta,C,Mo, WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体（0、N等）加入Ar气中，反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上，沉积绝缘膜可采用高频溅射法。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的y气离子化，造成靶与y气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。真空镀膜机操作程序旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12，当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时，再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。一般金属镀膜大都采用直流（DC）溅镀，而不导电的陶瓷材料则使用射频（RF）交流溅镀。
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