喷淋式蚀刻、速度快、精度高，适合于有一定批量的生产，生产易于实现自动化控制，但是设备投入大，同时也不适宜对异形工件及大型工件的蚀刻；侵泡式蚀刻设备投入小，蚀刻（化学蚀刻）方便，使用工件范围广。
工件形状及大小：
对于大型工件由于受设备限制，采用喷淋式蚀刻难于进行，而侵泡式就不会受工件大小的影响。工件形状复杂，在喷淋时有些部位会出现喷淋不到位的情况而影响蚀刻的
小型电蚀刻机金属上刻字
喷淋式蚀刻、速度快、精度高，适合于有一定批量的生产，生产易于实现自动化控制，但是设备投入大，同时也不适宜对异形工件及大型工件的蚀刻；侵泡式蚀刻设备投入小，蚀刻（化学蚀刻）方便，使用工件范围广。
工件形状及大小：
对于大型工件由于受设备限制，采用喷淋式蚀刻难于进行，而侵泡式就不会受工件大小的影响。工件形状复杂，在喷淋时有些部位会出现喷淋不到位的情况而影响蚀刻的正常进行，而侵泡式由于是将工件整个侵泡在蚀刻液中，只要保持溶液和工件之间的动态，就能保证异性工件的各个部位都能充满蚀刻液并进行新液与旧液的连续更换，使蚀刻能正常进行。
对于不大的平面或近乎平面的工件如果条件允许，采用喷淋式蚀刻不管是效率或是精度都优于侵泡式蚀刻。所以，对于批量大、工件大小适中、形状简单的平面形状的工件以采用喷淋式为；如果工件外形较大，难以采用蚀刻机，工件形状复杂，批量不大，这式以采用侵泡式为宜。
蚀刻网的生产的蚀刻工艺流程：
透过蚀刻网的特性可以得知，蚀刻网全部都是用化学蚀刻的方法生产加工而成，因为蚀刻网上是很密集的小孔且不允许有毛刺和风批的，而冲压工艺是做不到这种密集度和平滑度的。蚀刻网的工艺是采用曝光显影的方式来做图像转移的，所以蚀刻网生产加工需要六台设备通过六道工序来生产加工而成的，六台设备分别为：涂布机、烤箱、曝光机、显影机、蚀刻机、超声波清洗机。通过这六台设备的性能作用于各自对应工序来实现生产加工。
蚀刻机：通过蚀刻机的高压喷淋特性把蚀刻液喷淋到做好图像转移的工件上，腐蚀露出金属的部分;
此套设备的配套设备为以下五台设备：
涂布机：整版做保护层，在清洁除油后的金属板材表面均匀的覆盖一层保护油墨;
烤 箱：把金属板材上做好的保护油墨烤干，防止油墨流挂加速干燥;烤箱
曝光机：通过菲林片和曝光机上的光线把菲林片上的图案完全固化到金属片上;曝光机
显影机：把做好图像转移的金属片上不需要的油墨清洗掉，实现图像转移;显影机
超声波清洗机：把腐蚀后的金属片上多余的油墨全部清洗掉得到成品。
NH4Cl浓度对蚀刻的影响：从溶液再生的化学反应式可以看出，[Cu(NH3)2]-的再生过程需要有大量的NH3-H2O和NH4Cl的存在，如果蚀刻机药液缺乏NH4Cl，将使[Cu(NH3)2]-得不到再生，蚀刻速度就会降低，以至于失去蚀刻能力。所以，NH4Cl的含量对蚀刻速度影响很大。但是，溶液中Cl-含量过高会引起抗蚀层侵蚀，一般浓度控制在150g/L左右为宜。
温度对蚀刻速度的影响：当蚀刻温度40℃时，蚀刻速度很慢，而蚀刻速率过慢会增大侧蚀量，影响蚀刻精度。温度高于60℃，蚀刻速率明显加快，但氨的挥发量也大大增加，导致环境污染的同时使溶液中化学成分比例失调，故一般蚀刻机工作温度控制在45℃~55℃为宜。
刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。
“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。
扩展资料：
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
1.手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
2.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
3.自动： 指的是 从基板的上载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
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