曝光显影的曝光光源：高压灯、准分子激光器、X射线及电子束；曝光后烘焙（PEB）：驻波是使用光学曝光和正性光刻胶时出现的问题，一种减少驻波效应的方法是在曝光后烘焙晶圆，PEB的时间和温度的规格是烘焙方法、曝光条件以及光刻胶化学所决定的。曝光速度、灵敏性和曝光源：反应速度越快，在光刻蚀区域晶圆的加工速度越快；灵敏性是与导致聚合或者光溶解发生所需要的能量总和相关的； 充电宝标牌曝光显影加工厂
显影问
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曝光显影的曝光光源：高压灯、准分子激光器、X射线及电子束；曝光后烘焙（PEB）：驻波是使用光学曝光和正性光刻胶时出现的问题，一种减少驻波效应的方法是在曝光后烘焙晶圆，PEB的时间和温度的规格是烘焙方法、曝光条件以及光刻胶化学所决定的。曝光速度、灵敏性和曝光源：反应速度越快，在光刻蚀区域晶圆的加工速度越快；灵敏性是与导致聚合或者光溶解发生所需要的能量总和相关的； 充电宝标牌曝光显影加工厂
显影问题
如果不能正确地控制显影工艺，图形传递的度就会出现问题，这些光刻胶的图形问题，如未能及时检出，传递到后续的刻蚀或者去胶工序中，就会对产品产生明显的不良影响。显影液中还会添加表面活性剂，用以减小表面张力，改善显影效果。
常见的显影问题有3类，分别是显影不足、不完全显影和过显影。从外观上看，显影不足的线条比正常线条要宽，并且侧面有斜坡；
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感光材料曝光后产生的潜影变为可见影像的过程。显影通常有两种方式: (1) 化学显影:用显影剂(氧化剂)等多种药品配成显影液,使感过光的卤化银颗粒发生还原反应,而未感过光的卤化银不受影响,如果采用薄胶自动显影设备进行显影,因为显影时间较长,显影液喷洒到晶片上进行显影后,经过漂洗等工艺,很难再进行回收,这样势必消耗大量的显影液,造成浪费。充电宝标牌曝光显影加工厂
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