还在为显影工艺苦恼？把握好这几个要点就够了！显影工艺流程以及有关问题的解决方法。温度在三十度到四十度之间，浓度大概在百分之一到百分之二的无水碳酸钠溶液作为水溶性干膜的显影液。在一定范围内，温度越高，显影的速度也就越快。不一样的干膜也会稍稍有一些区別，因此我们需要结合现实情况进行合理调节。感光膜中未曝光区域的活性基团与稀碱饱和溶液发生化学反应，终转化成可溶性化学物质，这就是所说的显影反应原理。充电宝
充电宝标牌曝光显影定制
还在为显影工艺苦恼？把握好这几个要点就够了！显影工艺流程以及有关问题的解决方法。温度在三十度到四十度之间，浓度大概在百分之一到百分之二的无水碳酸钠溶液作为水溶性干膜的显影液。在一定范围内，温度越高，显影的速度也就越快。不一样的干膜也会稍稍有一些区別，因此我们需要结合现实情况进行合理调节。感光膜中未曝光区域的活性基团与稀碱饱和溶液发生化学反应，终转化成可溶性化学物质，这就是所说的显影反应原理。充电宝标牌曝光显影定制
光刻工艺的主要步骤如下(1)对半导体晶片(Wafer)进行清洗，并使用增黏剂进行成膜处理；(2)在所述半导体晶片上通过旋涂的方法形成光刻胶层；(3)执行软烘烤(soft bake)工艺，去除所述光刻胶层中的溶剂，并增加所述光刻胶层在半导体晶片表面的粘附性；(4)将所述半导体晶片传送至曝光设备，通过一系列对准动作后，对所述半导体晶片表面的光刻胶层进行曝光，掩膜版上预定好的图案通过曝光可以转移到所述光刻胶层上；充电宝标牌曝光显影定制
曝光了光刻胶中的光敏成分，对于正性光刻胶而言，被曝光的光刻胶区域发生了光化学反应，从而可溶于显影液中；对所述半导体晶片上的光刻胶层进行曝光后烘烤， 通过曝光后烘烤，消除曝光时的驻波效应，改善形成的光刻胶图案的侧壁轮廓；对所述光刻胶层进行显影，光刻胶层被曝光的区域与显影液发生化学反应而溶解，然后用去离子水进行冲洗将溶解的光刻胶去除；充电宝标牌曝光显影定制
曝光显影logo印刷方式及过程
种：丝印。丝印指的是丝网印刷。是将标志通过网孔把油墨漏印在纸张或者其他材质上。丝印的优点很多，在礼品标志印刷上的应该很广泛。丝印的特点有：可以在不同形状物品表面印刷，板块柔软不会损坏承印物，附着力强等等。
丝印的制作过程是：原稿→底版→丝网版→晒版→显影→干燥→印刷→检验→成品
（作者： 来源：）
