手机壳真空镀膜加工技术，就可以较好地解决这个难题。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以较大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。
按镀膜机操作规程对真空室进行抽真空。当真空度达到3710Pa-以后，依次对舟预熔，去除膜料中的气体。此时，应注意用挡板挡住膜料，以保证预熔中基片
真空镀膜加工
手机壳真空镀膜加工技术，就可以较好地解决这个难题。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以较大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。
按镀膜机操作规程对真空室进行抽真空。当真空度达到3710Pa-以后，依次对舟预熔，去除膜料中的气体。此时，应注意用挡板挡住膜料，以保证预熔中基片不被镀上。
20世纪70年代，在物体外表上镀膜的办法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体外表上，因而这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，并且薄膜厚度也难以控制。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，一般称为干式镀膜技能。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝结并堆积的办法，称为真空镀膜。
请问什么是PVD
PVD是英文Physical Vapor Deition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
请问PVD镀膜的具体原理是什么
离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
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