1. 溶剂输送系统（单元泵、二元泵、四元泵）相同指标
串联双柱塞往复泵，伺服控制主动入口阀, 可变冲程（20μL～100μL）设计；用户
自主溶剂压缩因子设置，保证在不同流速及不同流动相组成的佳流速稳定性。自动柱塞清
洗装置，有效防止高盐浓度流动相对柱塞的磨损，实时维护泵的使用性能。
流速精密度：<0.07%RSD 或≤0.02min SD
1200液相供应
1. 溶剂输送系统（单元泵、二元泵、四元泵）相同指标
串联双柱塞往复泵，伺服控制主动入口阀, 可变冲程（20μL～100μL）设计；用户
自主溶剂压缩因子设置，保证在不同流速及不同流动相组成的佳流速稳定性。自动柱塞清
洗装置，有效防止高盐浓度流动相对柱塞的磨损，实时维护泵的使用性能。
流速精密度：<0.07%RSD 或≤0.02min SD
流速准确度：±1%或 10uL/min
压力脉动：< 1%
pH 范围：1.0~12.5
在线真空脱气机（G1322A/G1379B）
四通路在线真空膜过滤技术，内置真空泵，压力传感器，实时监控真空腔压力变化，保
证及时的脱气操作。
真空维持：
G1322A 自动监测真空状态，真空降低，自动启动真空泵，有效维持真空度。
G1379B 连续真空运行，有效降低液流脉动，适配低流速液相色谱系统。
大流速：每一通路 10mL/min（G1322A）；5.0mL/min（G1379B）
内体积：每一通路 12mL （G1322A）；1.0mL（G1379B）
pH 耐受范围：1~14
进样系统
3.1 手动进样阀
MBB 设计，有效降低阀切换时的压力波动；内置位置传感开关，触发液相色谱系统的
启动。
7725i (不锈钢材质)，9725i（PEEK 材质）
适配定量环：1μL ~ 5mL（标配 20μL 定量环）
苏州科鲁斯特测控科技有限公司是由国内外分析行业资深人士成立。公司专注于生物、化学、电子等行业测试用设备。
实现晶体的外延生长。这种技术可以生长Si、GaAs、GaAlAs、GaP等半导体材料以及石榴石等磁性材料的单晶层,用以做成各种光电子器件、微波器件、磁泡器件和半导体激光器等 [1] 。液相外延由尼尔松于1963年发明，成为化合物半导体单晶薄层的主要生长方法，被广泛的用于电子器件的生产上。薄层材料和衬底材料相同的称为同质外延，反之称为异质外延。液相外延可分为倾斜法、垂直法和滑舟法三种。
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