在显影时也就不会存在这样的酸碱中和，因此非曝光区的光刻胶被保留下来。经过曝光的正胶是逐渐溶解的，中和反应只在光刻胶的表面进行，因此正胶受显影液的影响相对比较小。显影后留下的光刻胶图形将在后续的刻蚀和离子注入工艺中作为掩模，因此，显影是一步重要的工艺。显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。显影包括正显影和反转显影。亮面曝光显影加工
曝光显影工艺-曝光时间的控制影响因素曝光时间
亮面曝光显影加工
在显影时也就不会存在这样的酸碱中和，因此非曝光区的光刻胶被保留下来。经过曝光的正胶是逐渐溶解的，中和反应只在光刻胶的表面进行，因此正胶受显影液的影响相对比较小。显影后留下的光刻胶图形将在后续的刻蚀和离子注入工艺中作为掩模，因此，显影是一步重要的工艺。显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。显影包括正显影和反转显影。亮面曝光显影加工
曝光显影工艺-曝光时间的控制影响因素曝光时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。显影 曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能显影，这必须根据实际情况，根据干膜的要求执行。
s1：uv灯固化：将s4中所述的遮挡后的玻璃片放在uv灯下，固化5-8s；
s2：清洗：对不需要喷墨的部位进行清洗，干燥，制得玻璃基板；
s3：检验：对s6中所述的玻璃基板进行质量检验，然后对玻璃基板进行曝光与显影；
s4：区域遮挡：将玻璃片上不需要的区域用夹具夹好、遮挡起来。
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曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.显影：通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉.曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺；
曝光显影不良是什么原因？
曝光要适度。这样才能达到线条清晰平直，保证图形电镀的合格率及其基板的电性能和其它工艺要求。
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