真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁
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真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
硬质涂层中的应用：切削工具、模具和耐腐蚀零件等。
在防护涂层中的应用：飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。
在光学薄膜领域中的应用：增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。
在建筑玻璃方面的应用：阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。
在太阳能利用领域的应用：太阳能集热管、太阳能电池等。
在集成电路制造中的应用：薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。
但仍是一个不可忽视的数据，为处理这大量的污染，大部分企业已投放了共5868.1亿元在污水治理方面，464.8亿元在固体废物治理方面，就针对目前的情况来看，由于获得真空和等离子体的仪器设备较为精密昂贵，而且沉积工艺还掌握在少数技术人员手中，并没有大量被推广，其投资和日常生产维护费用也昂贵。但是，相信随着社会的不断进步，东莞真空电镀的优势会越来越明显，在某些行业取代传统的湿法电镀是大势所趋，时间的问题！
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