真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁
耳机配件真空电镀厂
真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
表示溶质溶于溶液中之量为浓度。塑胶真空电镀加工，在一定量的溶剂中，溶质能溶解之大量值称之溶解度。
达到溶解度值之溶液称之为饱和溶液，反之为非饱和溶液。溶液之浓度，在生产和作业管理中，使用易了解和方便的重量百分比浓度和常用的摩尔浓度。
物质反应在塑胶真空电镀加工的电镀处理过程中，有物理变化及化学变化，例如研磨、干燥等为物理反应，电解过程有化学反应，我们必须充分了解在处理过程中的各种物理和化学反应的相互关系及影响。
改善思路：基片本身的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本身可能是膜料匹配问题。
改善对策：
1、改进膜系，层不用氧化锆。
2、尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备工作。
3、真空室在更换护板、清洁后，好能空罩抽真空烘烤一下，更换的护板等真空室部件必须干燥、干净。
4、改善环境
5、妥善保护进罩前在伞片上的镜片，免受污染。
6、改善洗净、擦拭效果。
7、改善膜匹配（考虑层用Al2O3）
8、改善膜充氧和蒸发速率（降低）
9、加快前工程的流程。前工程对已加工光面的保护加强。
10、抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他杂质附着干结。
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