我们知道，光学平台台面，若为达到高平面度，通常需要反复磨削，在加工过程中，多次磨削容易使材料产生形变，为了减少形变，通常要加厚台面，但我们通过振动恢复时间的说明已经知道，台面加厚质量增加，平台的振动恢复时间往往成倍（甚至几倍）增加，在很多精密光学实验中，这是不可接受的。 对于平台上的光学元件来说，平面度引起的高度差，通常可以忽略不计，若确有必要考虑高度差，则完全可以通过
光学平台支架
我们知道，光学平台台面，若为达到高平面度，通常需要反复磨削，在加工过程中，多次磨削容易使材料产生形变，为了减少形变，通常要加厚台面，但我们通过振动恢复时间的说明已经知道，台面加厚质量增加，平台的振动恢复时间往往成倍（甚至几倍）增加，在很多精密光学实验中，这是不可接受的。 对于平台上的光学元件来说，平面度引起的高度差，通常可以忽略不计，若确有必要考虑高度差，则完全可以通过卓立精密调整的位移台来实现。综上所述，光学平台的平面度，同光学平台的隔振性能不相关，只能做为光学平台的一个辅助指标，供参考。
全世界光学平台的主要生产和出口国是美国、日本、德国，基本表现为技术密集型产品。发达已于20世纪80年代实现光学平台高科技、高水平、顶端技术产品，比如国外的A&P INSTRUMENT CO，LTD所生产的Newport隔振平台系列产品在国外市场上深受科研用户信赖。未来10年，发达将进一步推动光学平台仪器实现光机电仪一体化和智能化目标，推动具有优异性能的光电器件和功能材料的开发及应用，并将加速现代光学平台设备的发展。由天CCD器件、半导体激光器、红外仪器、光纤传感器待制造技术趋于成熟，也为光学平台设备的发展提供了更加宽广的空间。
光学平台的硬重比对于其共振频率有着重要的影响。较高的硬重比可以提高平台的共振频率，从而降低其在外界影响下的振动。而且在外力作用下，具有较高硬重比的平台可以在较小的重量下产生比较小的变形，增加系统内部的刚性。内部采用蜂窝状支撑结构的光学平台可以充分的提高硬重比，达到提高系统性能的目的。
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好的精密光学平台不仅需要的机器设备来加工，更需要有检测手段与检测仪器来保证，也只有好的光学平台才能保证的科学实验、研究的正常进行。
1、试验目的：检测气垫隔振垂直方向和水平固有频率、振幅、振动速度、振动效果。
2、试验方式：采用三点均布试验。
3、试验设备和试件：气垫隔振器三只、质量载体一件。
4、测试仪器振动分析；位移传感器2只；电脑；采集分析软件。
5、试验：采用多点敲击法澜可得固有频率，振幅，振动速度，振动效果。
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