半导体清洗
半导体清洗机在清洁过程中使用普通自来水、酒精、溶剂来进行清洗就可以了。没有那么多各种各样的清洗剂。
半导体清洗机大功率换能器清洗效果良好，可用肉眼观察到，清洗后物体闪亮发光。而且他是机械定时控制开机时间。全不锈钢外壳与盖子、内胆，更显*档。新版本的半导体清洗机在防水性方面大大改进，产品更加安全持久，配了排水球阀，带加热配恒温系统，配不锈钢清洗篮可按照客户
硅片刻蚀
半导体清洗
半导体清洗机在清洁过程中使用普通自来水、酒精、溶剂来进行清洗就可以了。没有那么多各种各样的清洗剂。
半导体清洗机大功率换能器清洗效果良好，可用肉眼观察到，清洗后物体闪亮发光。而且他是机械定时控制开机时间。全不锈钢外壳与盖子、内胆，更显*档。新版本的半导体清洗机在防水性方面大大改进，产品更加安全持久，配了排水球阀，带加热配恒温系统，配不锈钢清洗篮可按照客户的要求设计制造。
硅片腐蚀利用晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用对硅腐蚀的各向异性，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：①现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚砂溶液作用下多次往返削切成硅片，金刚砂硬度很高，会在硅片表面带来一定的机械损伤。如果损伤不去除，会影响太阳电池的填充因子。②是在国民经济生产中大量应用化工产品。由电解水而得，价格比较便宜，每500克6元。化学反应方程式为：2NaCl + 2H2O ==通电== 2NaOH + Cl2↑ + H2↑ 。分③碱性腐蚀优点是反应生成物无·，不污染空气和环境。不像HF-HNO3酸性系统会生成有·的NOx气体污染大气。另外，碱性系统与硅反应，基本处于受控状态。有利于硅片的腐蚀，可以保证一定的平行度。
研究所及其他原子能工业：
需要清洗的产品：控制杆、计数管、泵、铅管类、研究所用的容器、玻璃螺管、玻璃管、分析试料、目镜等
污染源：灰尘、沾附污垢、砂砾、硅油、润滑油
使用清洗剂：碱性洗涤剂、中性洗涤剂；纯水；有机性洗涤剂
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
1、家电产品——各种家电产品制造如彩色显像管，空调，冰箱零部件，热水器，灶具，电饭锅，电磁灶，电风扇，榨汁机，电熨斗等金属件清洗。
2、电镀，真空镀——镀前除锈，氧化层，除油，除抛光蜡，抛光膏等清洗。
3、钟表、眼镜、珠宝--制造过程金属表壳，表带，机芯零件，眼镜架，珠宝研究抛光后的精密清洗。
4、电机，微电机--转子，空子，矽钢片，机壳，电机片的除油清洗。
5、容器类--各种kou服液容器，食品玻璃金属容器，化妆品容器类，包装容器类，器具清洗、检验板。
7、中药材有效成份萃取--替代传统的高温水煮萃取工艺，并保护有效成份。
8、喷淋清洗机：维修清洗--各种设备，设施，交通运输车辆工具，家用电器维修中的除油，除尘，除垢清洗;印刷行业的胶辊、丝印网清洗，打印机喷头清洗，CD/VCD/DVD光盘清洗
9、液压油清洗--循环冲洗过滤装置广泛应用于油库、飞机制造、航空、工程机械、冶金和造船等行业，用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过滤，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障。
（作者： 来源：）
