金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
pvd真空镀膜工艺参数与您分享
5.全封闭非平衡磁控溅射 通过全封闭非平衡电磁场的作用,极大地提高真空室内的离化率以及沉积速率,增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。
6.脉冲高能窄峰直流溅射 提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%),接近
pvd真空镀膜工艺参数
金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
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5.全封闭非平衡磁控溅射 通过全封闭非平衡电磁场的作用,极大地提高真空室内的离化率以及沉积速率,增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。
6.脉冲高能窄峰直流溅射 提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%),接近电弧的离化率。通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量,从而改善膜层的结合力和致密性。
7.阳极层离子源辅助沉积 提高轰击清洗的质量,特别是可以实现对非导体的镀前清洗,镀膜时辅助沉积,提高沉积粒子的能量,改善膜层的结合力。
8.纳米复合多层膜 纳米沉积技术,是涂层结构未来的发展方向,通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜,实现涂层性能的极大增强。
9.装饰性双色间镀 单一的颜色PVD涂层已满足不了市场的需求,进而提出双色间镀的要求,这是装饰涂层的发展方向,双色间镀的质量成为代表PVD加工企业的生产技术水平标志。
10.高能脉冲叠加直流偏压 减少工件的打火,增加沉积离子能量,增强膜基结合力,提高沉积速率。
11.超低温捕集泵 通过低温冷凝效应,迅速捕集真空系统内的残余气体,特别是水蒸汽,大大缩短抽真空的时间,获得洁净的真空环境。
12.分子泵及深冷泵 绿色环保,大大降低能耗,真空系统抽速稳定,镀膜工艺,重现性好。深冷泵还可以抽排低饱和蒸汽压等难抽气体,保证真空系统的洁净度。
pvd真空镀膜工艺参数与您分享 磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标,因此有必要研究影响磁控溅射均匀性的因素,以更好的实现磁控溅射均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中,闭合的磁场束缚电子围绕靶面做螺线运动,在运动过程中不断撞击工作气体气电离出大量的离子,离子在电场作用下加速轰击靶材,溅射出呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。所以要实现均匀的镀膜,就需要均匀的溅射出靶原子(或分子),这就要求轰击靶材的离子是均匀的且是均匀的轰击的。由于离子在电场作用下加速轰击靶材,所以均匀轰击很大程度上依赖电场的均匀。而离子来源于被闭合的磁场束缚的电子在运动中不断撞击的工作气体气,这就要求磁场均匀和工作气体气均匀。但是实际的磁控溅射装置中,这些因素都是不均匀的,这就有必要研究他们不均匀对成膜均匀性的影响。
由于超声波在传递过程中会产生低压区和高压区,并且气穴现象只在低压区发生。所以被清洗工件在超声波中需要上下振动,使工件上的每个区域都经过低压区以获得“微型刷子”的清洁作用。超声波在水中的传递速度为1500m/s,假设超声渡的频率为30000Hz,则所使用的超声渡波长
λ=速度/频率=1500/30000=0.05m=5cm
所以,如使用30000Hz的超声波,工件的上下振动距离应不小于5厘米.对于其他频率的超声波.震动距离可以同理计算出来。在纯粹的化学药剂浸泡清洗中,清洗溶液首先溶解工件表层的污染物,并逐渐向污染层内部渗透溶解,在这个过程中,在工件表层会逐渐形成一层溶解饱和层.这层饱和层将新鲜的化学清洗液与深层的污染物隔离,阻碍清洗液对深层污染物的继续溶解,如果这层饱和层不能被破坏去掉,清洁就停止了。对于比较脏的工件,纯粹的浸泡清洗方式很难将工件清洁干净。利用超声波的“微型刷子”的作用就可以破坏掉表层的溶解饱和层,新的化学药剂到达较深的污染层继续溶解,超声波接着继续破坏掉新形成的溶解饱和层,如此循环,清洁不断进行下去,直到工件被清洁干净。

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