硅片腐蚀利用晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用对硅腐蚀的各向异性，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：①现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚砂溶液作用下多次往返削切成硅片，金刚砂硬度很高，会在硅片表面带来一定的机械损伤。如果损伤不去除，会影响太阳电池的填充因子。②是在国民经济生产中大量应用化工产品。
硅片酸洗设备
硅片腐蚀利用晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用对硅腐蚀的各向异性，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：①现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚砂溶液作用下多次往返削切成硅片，金刚砂硬度很高，会在硅片表面带来一定的机械损伤。如果损伤不去除，会影响太阳电池的填充因子。②是在国民经济生产中大量应用化工产品。由电解水而得，价格比较便宜，每500克6元。化学反应方程式为：2NaCl + 2H2O ==通电== 2NaOH + Cl2↑ + H2↑ 。分③碱性腐蚀优点是反应生成物无·，不污染空气和环境。不像HF-HNO3酸性系统会生成有·的NOx气体污染大气。另外，碱性系统与硅反应，基本处于受控状态。有利于硅片的腐蚀，可以保证一定的平行度。
我们大家都知道，在工业生产过程中，我们都面临着各种各样的清洗问题，这是不可避免的。因此如何、有效的解决这些清洗难题，不但影响到工业生产的效率，同时也对产品的起到决定性的影响。由此看来，一个工业企业，如何才能、有效的解决面临的各种工业清洗的问题是非常重要的。 企业选对一家合适的清洗设备公司进行quan面的合作是尤为重要的。作为清洗设备公司——苏州晶淼半导体设备有限公司目前已经发展成为众多工业企业shou选的合作对象，为了使更多的国内工业企业深入的了解我们苏州晶淼半导体设备高压清洗机及系列清洗产品，请随时关注我们的网站，及发布的*新信息。也欢迎来电咨询，我们将竭诚为您服务。
通用超声波清洗机清洗零件实用性强，已遍及使用于电子、钟表、光学、机器、汽车、航空、原子能财制作、等许多行业。 超声波清洗机通常安设在某些特定物件清洗的生制作流水线上。 楷模的软磁器件超声波清洗设施，被清洗物件从进料口可传动的不锈钢网带送人超声波清洗槽清洗，再经喷淋、烘干等工序后出料，实现被清洗物件可直接包装入库。
各工序简要说明以下：
进料：物件进料可采用半踊跃进料或出料：物件出料可采用踊跃收料或手工收料法子，格被清洗物件装入包装盒内。 经过上述工序就完成为了物件实现利用超声波清洗的全过程。 目前，还有一种超声汽相清洗机，它是选用·溶剂作清洗液，具有极强的溶解污垢的才干，用于清洗半导体晶片等净治度申请特别高的物件。
清洗缸：清洗缸是用来装载清洗液及被清洗工件的不锈钢容器，大多数工件可先装在网状框架内，再一同放人缸内清洗。
等离子清洗法利用等离子体产生的自由基与有机异物反应，再以气流的方式去除，从而达到清洗的目的。由于AP功率强，一般会对金属表面产生影响，所以，在金属制程中一般不采用AP Plasma的清洗技术。AP使用的气体主要是氮气和空气按照一定的比例混合，同时，和玻璃基板保持合适的距离，加载一定的电压，从而产生自由基，对基板表面进行清洁。
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