半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘
RCA清洗台价格
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、xi菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
清洗设备应用行业
1. 石油化学工业:设备和管道的清洗、除垢、除焦、清除高分子聚合物和生产工艺中沉积的缩合物等。
2. 精密电子工业:光学仪器、精密机械及机器人以及零部件的洗净.
3. 电力工业:高压输变站设施及配电柜和变压器等清洗。
5. 机械工业:金属设备的酸洗、除锈、钝化、去油和镀膜以及精加工前的金属表面处理。
6. 冶金工业:各种冶炼炉冷却系统高硅垢的清洗、以及液压、润滑系统的清洗。
7. 热能动力工业:、热电厂、工业锅炉的清洗除垢和水质处理。
8. 交通运输业:船舶、内燃机车、汽车等的清洗。
9. 建筑工业:建筑物墙面、上下水管道、采暖及通风设备和各种空调设备的清洗。
10.宝石加工、钟表工业、光学机械等精密工业:计量仪表、钟表线、手饰、带扣打字盘、凹型部件、环、齿轮、发条、轴承、宝石、透镜、眼镜架、贵重金属装饰品、照相机、快门、零件、钻研模具
11.汽车工业:阀、点火栓、气化栓、制动泵、燃料泵、蓄电池、电极板、活塞环、机器操纵盘、部件、内部装配的部件、摩托车用油箱
12.橡胶工业:手套、带子、白轮胎、橡胶制品、橡胶成型金属模
13.金融ji关:图章、受理号码牌子、瓷器、银制品
清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响
清洗液的静压力大时，不容易产生空化，所以在密闭加压容器中进行超声清洗或处理时效果较差
清洗剂的选择要从两个方面来考虑：一方面要从污物的性质来选择化学作用效果好的清洗剂；另一方面要选择表面张力、蒸气压及粘度合适的清洗剂，因为这些特性与超声空化强弱有关。液体的表面张力大则不容易产生空化，但是当声强超过空化阈值时，空化泡崩溃释放的能量也大，有利于清洗；高蒸气压的液体会降低空化强度，而液体的粘滞度大也不容易产生空化，因此蒸气压高和粘度大的洁洗剂都不利于超声清洗。
此外，清洗液的温度和静压力都对清洗效果有影响，清洗液温度升高时空化核增加，对空化的产生有利，但是温度过高，气泡中的蒸气压增大，空化强度会降低，所以温度的选择要同时考虑对空化强度的影响，也耍考虑清洗液的化学清洗作用每一种液体都有一空化活跃的温度，水较适宜的温度是60-80℃，此时空化活跃。
超声波清洗机在各个行业的应用
光学、光电、光伏行业：
需要清洗的产品：光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等
污染源1：研磨粉、真漆、沥青、润滑油、抛光剂、石墨、微尘
污染源2：尘垢、盐、手垢
使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类(·等)
使用清洗剂2：碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂，纯水
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
（作者： 来源：）
