反转磁控溅射刻蚀在一般的磁控放电设备中,接地钢带作为阴极(图6。在带材将要镀膜的一面布置一个空心阳极,在基底背面布置一个磁场系统。这种设备在带材表面产生强度约为25mT的磁场。磁控放电直接在金属化基底表面点火。利用离子冲击获得的刻蚀率可以和从磁控源获得的溅射率相比。为了确保稳定的运行,和用于磁控技术中相似的中频电源用于溅射刻蚀工作站。电流密度可以达到约10mA/cm^2
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反转磁控溅射刻蚀在一般的磁控放电设备中,接地钢带作为阴极(图6。在带材将要镀膜的一面布置一个空心阳极,在基底背面布置一个磁场系统。这种设备在带材表面产生强度约为25mT的磁场。磁控放电直接在金属化基底表面点火。利用离子冲击获得的刻蚀率可以和从磁控源获得的溅射率相比。为了确保稳定的运行,和用于磁控技术中相似的中频电源用于溅射刻蚀工作站。电流密度可以达到约10mA/cm^2。在钢带处理的特殊情况下,需要考虑磁场为对带材运行的影响和钢带附近的磁场的屏蔽。稳定的钢带通过量利用辊子对带的引导来获得。通过利用由稀土磁体组成的磁场系统,可以在厚度为0.9的钢带表面保持稳定的磁控放电。可以观察到对钢带的刻蚀率达到15~20nm/s。

连续钢带镀膜的试验型生产线为了实现如前面章节所描述的联合工艺的新型镀膜概念,一条具有模块式结构包含很多新镀膜技术的用于钢带连续处理的试验型加工生产线被几个合作者(工业的和科研的团体)的联营企业安装在DOC。这条试验型生产线的目的是用于为钢带特别研发新型镀膜系统和工艺。所有的工艺模块是按走带速率达到60M/MIN和带宽达300MM设计的。这样就可以获得有价值的经验,以便把这些工艺升级到工业规模。在具有全长接近80M的试验型生产线上实现和结合的不同的新镀膜技术显示在图5中。PVD工艺技术是被凡阿那研究所和夫琅和费金属与电子技术协会通过紧密合作来研发和实现的。

在完全的PVD方法里面,金属化钢板镀膜是全部利用PVD进行的。因此,膜厚在几μm级别的镀膜不得不用气相沉积。在联合方法中,钢基底已经以利用传统的电镀或者热浸镀的锌膜或锌合金膜作了准备。利用PVD,薄的附加膜层在膜厚为典型的约为100nm的级别时是适用的。这样,膜层的性质就可以修改,同时也可以提供附加的功能性质。这种方法提供了把传统镀膜工艺的和上面提及的PVD的在镀膜设计方面的灵活性联合起来的优点。

跟着社会的不断进步,真空电镀的优势会越来越显着,多个职业取代传统的湿法水电镀是大势所趋。加大对真空镀膜代替水电镀的研制投入,促使传统产业的升级是咱们企业的开展方向。“镀钛”便是将物体外表采用电化学的方法覆上一层钛金属膜。镀钛是在高温,真空钛金炉内,钛、锆金属。借用惰性气体的辉光放电使金属或合金蒸气离子化,离子经电场加速而堆积带负电荷的不锈钢板上,从而构成色泽丰富美丽的金属膜。这也叫PVD镀膜,是物理蒸汽堆积。不锈钢镀膜,也叫不锈钢钛/锆镀膜,便是在一个真空容器内,在不锈钢外表构成钛/锆化合物的离子膜层,膜层能在室外环境下长年。PVD镀膜技能的使用首要分为两大类装饰镀膜和东西镀膜。装饰镀的意图首要是为了改善工件的外观装饰功能和色泽一起使工件更耐腐蚀延长其使用寿命;这方面首要使用五金行业的各个领域,如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。

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