真空镀膜加工的基本技能要求
9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细,均按GB/T11164-1999中的4.4.6
10、其他注意事项
1)环境温度:10-30oC 2)相对湿度:不大于75% 3)冷却水进水温度:不高于25oC 4)冷却水质:城市自来水或相当质量的水。 5)供电电源:380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器
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真空镀膜加工的基本技能要求
9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细,均按GB/T11164-1999中的4.4.6
10、其他注意事项
1)环境温度:10-30oC2)相对湿度:不大于75% 3)冷却水进水温度:不高于25oC 4)冷却水质:城市自来水或相当质量的水。 5)供电电源:380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需求而定);电压波动范围:342-399V或198-231V;频率波动范围:49-51Hz。6)设备所需的压缩空气,液氮,冷水、热水等的压力、温度,消耗量等,均应在产品运用说明书中写明。7)设备周围环境整齐,空气清洁,不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。
真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支,在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。
真空蒸镀:其原理是在真空条件下,用蒸发器加热带蒸发物质,使其气化或升华,蒸发离子流直接射向基片,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
溅射镀膜:溅射镀膜是真空条件下,在阴极接上2000V高压电,激发辉光放电,带正电的离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
请问PVD镀膜能否代替化学电镀
在现阶段,PVD镀膜是不能取代化学电镀的,并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外,在很多其他材料(如锌合金、铜、铁等)的工件上进行PVD镀膜前,都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。PVD镀膜主要应用在一些比较的五金制品上,对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。
真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支,它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发,理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。首先在光学方面,一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后,即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料,也可以作成对某种波长的吸收,而对另一种波长的透射的滤色名片。
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