曝光显影是通过对未聚合光刻胶的化学分解来使图案显影，显影技术被设计成使之把完全一样的掩膜版图案到光刻胶上。.正光刻胶显影：碱（或）+水溶液、或叠氮化四铵氢氧化物的溶液（TMAH）;显影：干法光刻胶显影要求光刻胶化学物的曝光或未曝光的部分二者之一易于被氧等离子体去除，换言之图案的部分从晶圆表面上氧化掉，亮面曝光显影抛光
曝光显影的工艺流程 曝光显影是通过对未聚合光刻胶的化学分解来使图案显影，负光刻胶
亮面曝光显影抛光
曝光显影是通过对未聚合光刻胶的化学分解来使图案显影，显影技术被设计成使之把完全一样的掩膜版图案到光刻胶上。.正光刻胶显影：碱（或）+水溶液、或叠氮化四铵氢氧化物的溶液（TMAH）;显影：干法光刻胶显影要求光刻胶化学物的曝光或未曝光的部分二者之一易于被氧等离子体去除，换言之图案的部分从晶圆表面上氧化掉，亮面曝光显影抛光
曝光显影的工艺流程 曝光显影是通过对未聚合光刻胶的化学分解来使图案显影，负光刻胶显影：或stoddart溶剂显影，n-丁基醋酸盐冲洗；喷射-对负胶而言是标准工艺，对温度敏感的正胶却不是很有效，隔热冷却（adiabatic cooling）；显影：干法光刻胶显影要求光刻胶化学物的曝光或未曝光的部分二者之一易于被氧等离子体去除，换亮面曝光显影抛光
曝光显影+双色氧化工艺验证+镜面铝+镜面铝LOGO+镜面阳极氧化铝合金材料，应用于LOGO。目的：预研双色氧化过程中LOGO保护方法（曝光显影和丝印），验证该工艺的可行性。
双色处理常用的两种方法为：
1、油墨保护，两次染色：即壳件抛光后。通过曝光显影油墨保护LOGO区域，
2、两次阳极氧化，两次染色：即一次阳极氧化、染色、封孔后，再通过CNC加工去除氧化染色膜层后再进行二次阳极氧化染色，实现双色效果。亮面曝光显影抛光
曝光显影：曝光后显影不良是什么原因，曝光显影：曝光后显影不良是什么原因？下面一起去了解下：图形转移是制造高密度多层板的关键控制点，也是技术难点，极容易渗镀、显影不良或抗蚀干膜剥离等质量问题。渗镀：所谓渗镀，即是由于干膜与覆铜箔板表面粘结不牢，使镀液深入，而造成"负相"部分镀层变厚及镀好的锡铅抗蚀层，给蚀刻带来问题。亮面曝光显影抛光
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