眼镜、钟表工业、宝石加工业：
需要清洗的产品：眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、贵重金属装饰品、手饰、各类精密零件
污染源1：涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘
污染源2：尘垢、盐、手垢、染料、锈、塑料残留物
使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类
使用清洗剂2：碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂，纯水
眼镜清洗剂大部分是纯净水加表面活性剂制成的
晶圆腐蚀台
眼镜、钟表工业、宝石加工业：
需要清洗的产品：眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、贵重金属装饰品、手饰、各类精密零件
污染源1：涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘
污染源2：尘垢、盐、手垢、染料、锈、塑料残留物
使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类
使用清洗剂2：碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂，纯水
眼镜清洗剂大部分是纯净水加表面活性剂制成的，有的眼镜清洗剂里会加一些碱性清洗液，如洗洁精等，有的还添加了杀菌剂
超声波清洗机酿造/制药工业：
需要清洗的产品：瓶、盖子、标签去除装置、排气装置、处理器皿、处理用器具、充填装置管道等
污染源：残剩食物、指纹、灰尘、线头、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、润滑油、硅油
使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂；有机洗涤剂；纯水
清清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
MEMS是将微电子技术与机械工程融合到一起的一种工业技术，它的操作范围在微米范围内；微机电系统有多种原材料和制造技术，而硅则是用来制造微机电系统的主要原材料，微机电系统的生产方式是在基质上堆积物质层，然后使用平板印刷和蚀刻的方法来让它形成各种需要的结构。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF,,H2SO4,H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子,去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
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