清洗机
我们为什么要用到刷洗机来进行物件的清洗呢？那是因为常见的手工清洗方法对异型物件以及物件隐蔽处无疑无法达到要求，即使是蒸汽清洗和高压水射流清洗也无法满足对清洁度较高的需求，但是用刷洗机清洗对物件还能达到杀灭xi菌、溶解有机污染物、防止过腐蚀等，因此，刷洗机被日益广泛应用于各行各业：
（1）机械行业：防锈油脂的去除；量具的清洗；机械零部件的除油除锈；发动机、化油
晶片清洗设备
清洗机
我们为什么要用到刷洗机来进行物件的清洗呢？那是因为常见的手工清洗方法对异型物件以及物件隐蔽处无疑无法达到要求，即使是蒸汽清洗和高压水射流清洗也无法满足对清洁度较高的需求，但是用刷洗机清洗对物件还能达到杀灭xi菌、溶解有机污染物、防止过腐蚀等，因此，刷洗机被日益广泛应用于各行各业：
（1）机械行业：防锈油脂的去除；量具的清洗；机械零部件的除油除锈；发动机、化油器及汽车零件的清洗；过滤器、滤网的疏通清洗等。
（2）表面处理行业：电镀前的除油除锈；离子镀前清洗；磷化处理；清除积炭；清除氧化皮；清除抛光膏；金属工件表面活化处理等。
（3）仪器仪表行业：精密零件的高清洁度装配前的清洁刷洗等。
（4）电子行业：印刷线路板除松香、焊斑；高压触点等机械电子零件的清洗等。
半导体清洗
半导体清洗机在清洁过程中使用普通自来水、酒精、溶剂来进行清洗就可以了。没有那么多各种各样的清洗剂。
半导体清洗机大功率换能器清洗效果良好，可用肉眼观察到，清洗后物体闪亮发光。而且他是机械定时控制开机时间。全不锈钢外壳与盖子、内胆，更显*档。新版本的半导体清洗机在防水性方面大大改进，产品更加安全持久，配了排水球阀，带加热配恒温系统，配不锈钢清洗篮可按照客户的要求设计制造。
硅片清洗化学清洗
化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染,方法较多,有溶剂萃取、酸洗（硫酸、·王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性,将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后,再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗,由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。
超声波清洗机的应用
金融、造币行业：
需要清洗的产品：图章、受理号码牌子、瓷器、金/银制品等
污染源：手垢、灰尘、指纹、脏污
使用清洗剂：中性洗涤剂、碱性洗涤剂；纯水
印刷/制版行业：
需要清洗的产品：旋转机、金属板、铅字、母字、药用小玻璃瓶、照相底版、金属底盘等
污染源：油墨、指纹、油、染料
使用清洗剂：轻油（石油系洗涤剂）；碱性洗涤剂、中性洗涤剂
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