化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛抛光材料,抛光蜡(4张) 光过程中,钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性,表面微观凸起部位优先溶解,且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行,只是其速率有差异,结果使钢铁零件表面粗糙度得以整平,从而获得平滑光亮的表面。抛光可以填充表面毛孔、划
抛光剂价格
化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛抛光材料,抛光蜡(4张) 光过程中,钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性,表面微观凸起部位优先溶解,且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行,只是其速率有差异,结果使钢铁零件表面粗糙度得以整平,从而获得平滑光亮的表面。抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力
使用方法:1. 使用 工艺处理浓度: 建议控制条件 理想值Risr- B709 原液使用 原液使用处理温度 &nbs p; 65-75℃ 70℃处理方法 &nbs p; 搅拌浸泡处理时间 &nbs p; 5-10分钟 5min注:使用前 采用恒温加热35℃和均匀的搅拌,建议采用石英加热器加热。2. 处理流程工件脱脂 水洗 侵入化抛剂 清洗(2-3次) 烘干或后处理工序。建 浴:1、清槽 建议使用钢体结构内衬PP或PE材料,首先使用 碱液清洗后再使用盐酸清洗,再用清水清洗2-3遍,后使用纯水清洗一遍;2、配制 原液使用。废水处理:废水处理按常规化学品处理,同时应遵循 有关的化学应用规则,注意事项:在接触化学品时,必须阅读、理解和遵循MSDS上 的急救和处理建议。贮存时注意:贮存处应阴凉、干燥、避光。
铝化学抛光技术
一、对铝制品表面进行机械抛光:bbs.cnal.com5z4n6T#]:N8p,F3^
1、机械抛光工序为:粗磨、细磨、抛光、抛亮、喷砂、刷光或滚光等,根据制表面的粗糙程度来适当采取不同的工序。二、化学除油除膜:6z,R1d3w;%R1w
化学除油除膜过程是借着化学反应和物理化学作用,除去制件表面的油污和自然氧化膜。化学除油除膜一般采用酸性除油除膜剂AC。:b#^#﹨4;b7s2使用条件:
1、浓度:2-7%6d2X)r*MG8M
2、工艺条件:温度:20-30℃时间:2-10min酸洗液的配方:铝业论坛$V:n'e'^2h8L8N3c
浓硝液200~270ML/L铝业论坛;j'{&[%X-b5d
温度:室温时间:1-3min
除去含合金制件表面氧化膜和硅浮灰的酸洗液配方:9R9F9G9r8~9P'i
浓3体积;浓1体积。温度:室温时间:5-15min:r7T0_-a+m1H0u
铝及铝合金制件经化学酸洗后,必须立即用流动温水和冷水清洗,以除去残酸,然后浸入水中,以备化学抛光。
金属的化学抛光,常用、磷酸、硫酸、盐酸等酸性溶液抛光铝、铝合金、钥、钥合金,碳钢及不锈钢等。有时还加人明胶或甘油之类。抛光时必须严格控制溶液温度和时间。温室从室温到90℃,时间自数秒到数分钟,要根据材料、溶液成分经实验后才能确定值。半导体材料的化学抛光,如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后,还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、硫酸混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。
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