等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较
智能刀模蚀刻机金属上刻字
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法：反应性等离子体（RIE），顺流等离子体（downstream），直接等离子体（direction plasma）。
金属蚀刻工艺流程和别的工艺流程一样也是有其本身的特性，仅有对金属蚀刻工艺流程的特性有一个充足的了解，才可以设计出所必须的工艺流程。金属蚀刻工艺流程的特性具体表现在目标性、内在性、性、动态、多样性、结构型、可执行性、可管理性、可靠性、公信力和申请强制执行性等10个层面，下边五金蚀刻设备厂家就对于这种因素开展剖析探讨。
说白了目标性，便是根据某一工艺流程的整个过程有一个确立的輸出，换句话说要做到某一特殊的目地。针对金属蚀刻来讲，这一目地便是达到其设计工程图纸对商品的规定。更具体地说，这种规定包含商品的蚀刻规格规定、经蚀刻后的外表粗糙度规定等。
例如，针对装饰设计主要用途的文图蚀刻商品，历经所设计的工艺流程生产加工制做进行后所需做到的总体目标:①规定经蚀刻后的文图画面质量要高;②规定经蚀刻后金属材料外表粗糙度要合乎设计规定;③规定文图的蚀刻深层要达到设计规定;④工件在蚀刻过程中所产生的变形要在设计要求的范畴以内;这些。
再如，针对构造主要用途的商品，历经所设计的工艺流程生产加工制做进行后所需做到的总体目标:①经蚀刻后的工件其蚀刻深层是不是在设计要求的尺寸公差范畴以内;②经蚀刻后的工件其横着蚀刻规格转变后的具体规格是不是在设计要求的尺寸公差范畴以内，③经蚀刻后的工件外表粗糙度是不是达到设计规定这些。
NH4Cl浓度对蚀刻的影响：从溶液再生的化学反应式可以看出，[Cu(NH3)2]-的再生过程需要有大量的NH3-H2O和NH4Cl的存在，如果蚀刻机药液缺乏NH4Cl，将使[Cu(NH3)2]-得不到再生，蚀刻速度就会降低，以至于失去蚀刻能力。所以，NH4Cl的含量对蚀刻速度影响很大。但是，溶液中Cl-含量过高会引起抗蚀层侵蚀，一般浓度控制在150g/L左右为宜。
温度对蚀刻速度的影响：当蚀刻温度40℃时，蚀刻速度很慢，而蚀刻速率过慢会增大侧蚀量，影响蚀刻精度。温度高于60℃，蚀刻速率明显加快，但氨的挥发量也大大增加，导致环境污染的同时使溶液中化学成分比例失调，故一般蚀刻机工作温度控制在45℃~55℃为宜。
所谓目标性，就是通过某一工艺流程的全过程有一个明确的输出，或者说要达到某一特定的目的。对于金属蚀刻而言，这个目的就是满足其设计图纸对产品的要求。更具体地说，这些
要求包括产品的蚀刻尺寸要求、经蚀刻后的表面粗糙度要求等。
比如，对于装饰用途的图文蚀刻产品，经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:①要求经蚀刻后的图文清晰度要高;②要求经蚀刻后金属表面粗糙度要符合设计要求;③要求图文的蚀刻深度要满足设计要求;④工件在蚀刻过程所发生的形变要在设计规定的范围之内;等等。
再如，对于结构用途的产品，经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:①经蚀刻后的工件其蚀刻深度是否在设计规定的公差范围之内;②经蚀刻后的工件其横向蚀刻尺寸变化后的实际尺寸是否在设计规定的公差范围之内，③经蚀刻后的工件表面粗糙度是否满足设计要求等等。
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