PVD灯具的铝涂层真空镀膜PVD灯具的铝涂层真空镀膜。因为是金属薄膜，DC磁控溅射当然好。速度快。中频适合镀复合膜。如果选择离子源，霍尔离子源就足够了。但是要注意灯具的大小。一般霍尔离子源为圆形，离子源覆盖面积有限。你必须用离子束覆盖所有工件。如果普通霍尔离子源太小，可以考虑阳极层离子源。离子源难以发光的一个原因是磁场太弱，无法激发等离子体。虽然离子源种类很多，但基本上
家具镀钛加工公司
PVD灯具的铝涂层真空镀膜
PVD灯具的铝涂层真空镀膜。因为是金属薄膜，DC磁控溅射当然好。速度快。中频适合镀复合膜。如果选择离子源，霍尔离子源就足够了。但是要注意灯具的大小。一般霍尔离子源为圆形，离子源覆盖面积有限。你必须用离子束覆盖所有工件。如果普通霍尔离子源太小，可以考虑阳极层离子源。离子源难以发光的一个原因是磁场太弱，无法激发等离子体。虽然离子源种类很多，但基本上是先产生等离子体，然后从等离子体中提取气体离子，加速成离子束，以便后期注入电子，根据需要中和离子流。
溅射镀膜的基本原理:充(Ar)气的真空环境中
溅射镀膜的基本原理：充(Ar)气的真空环境中，当(Ar)原子被电离，形成离子(Ar)时，离子在电场力的作用下，加速轰击用镀料制成的阴极靶，靶将溅射出来并沉积在工件表面。溅射膜中的入射离子，一般是通过辉光放电获得的，在l0-2Pa~10Pa范围内，因此溅射出的粒子在飞向基体时，容易与空气中的气体分子发生碰撞，使其运动方向随机，沉积的薄膜容易均匀。
PVD法历早采用真空蒸镀技术
PVD是一种物理气相沉积法，它分为：真空蒸发法、真空溅射法和真空离子法。PVD镀膜通常指的是真空离子镀膜；NCVM镀膜通常指的是真空蒸发镀膜和真空溅射镀膜。真空镀的基本原理：在真空条件下，金属、金属合金等被蒸发蒸发，然后沉积到基体表面，蒸发法通常采用电阻加热，电子束轰击镀料，使其蒸发成气相，然后沉积到基体表面，PVD法历早采用真空蒸镀技术。
（作者： 来源：）
