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辽阳锰铜合金厂信息推荐「昆山市禄之发电子科技」

20世纪70年代初,一种结构和生产方式与传统软磁合金完全不同非晶态软磁合金问世,80年代末又发展了快淬微晶软磁和纳米晶软磁合金,使软磁合金的发展进入了一个崭新的阶段。从50年代起就开始生产热轧硅钢片,60年始生产以铁镍和铁钴系合金为主的各类软磁合金,70年代生产冷轧取向硅钢片,80年代中后期开始大批量试生产非晶态软磁合金,90年发了微晶和纳米晶软磁合金。从80年代起,陆续制
锰铜合金厂






20世纪70年代初,一种结构和生产方式与传统软磁合金完全不同非晶态软磁合金问世,80年代末又发展了快淬微晶软磁和纳米晶软磁合金,使软磁合金的发展进入了一个崭新的阶段。从50年代起就开始生产热轧硅钢片,60年始生产以铁镍和铁钴系合金为主的各类软磁合金,70年代生产冷轧取向硅钢片,80年代中后期开始大批量试生产非晶态软磁合金,90年发了微晶和纳米晶软磁合金。从80年代起,陆续制订并颁布了各类软磁合金生产技术条件的。




16wt.%合金同时存在FeAl和Fe3Al有序—无序转变,无序时磁晶各向异性和磁致伸缩系数为低值,可获得高磁导率。添加2—3%Mo可进一步提高电阻率、磁导率,饱和磁感应强度降低。低铝合金用作微电机、电磁阀、磁屏蔽材料。高铝合金可部分代替Fe-Ni系坡莫合金,用作中频变压器、换能器磁头等。铁铝合金的性能和用 途见表1。表1 铁铝合金的性能和用途 [2] 牌号品种厚度(mm)μi(mH/m)(0.4A/m时)μm(mH/m)Hc(A/m)B50(T)密度(g/cm)电阻率(μΩ·m)特点和用途




四十年代后期电子工业迅速发展,印刷线路耗用铜箔量剧增,其厚度则相继降为0.15、0.13、0.105、0.07、0.05和0.035毫米。六十年代后电子设备日趋微型化,密度印刷线路的刻线宽度和线间距已缩到0.15~0.2毫米,为减少腐蚀时侧蚀,铜箔厚度又降到18微米以下,直至以厚7.6微米“布朗铜箔”为代表的厚5一10微米的极薄铜箔。我国铜箔生产始于六十年代,厚35~50微米的,其宽度有半米及一来两种,极薄铜箔的生产则刚刚起步。






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