真空镀膜的方法材料：
(2)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。
(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。
光学镀膜方法材料
(1)氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高
化学气相沉积技术
真空镀膜的方法材料：
(2)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。
(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。
光学镀膜方法材料
(1)氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。
(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
真空镀膜加工即真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气，气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。其特点就是保色久，度好，但是由于其对环境要求较严格而且工艺相对比较复杂成本方面比一般电镀要高。在真空镀膜加工的上下表面都会发生反射，这样两束光相遇的时候，其光程差，其中n0是膜的折射率，d是膜的厚度。
真空镀膜加工能被誉为具发展前途的主要技能之一，并已在高技能产业化的发展中展现出诱人的市场前景。这种新式的真空镀膜加工技能已在国民经济各个范畴得到使用，如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、等范畴。真空镀膜加工：采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜。
挂镀适用于一般尺寸的制品，如汽车的保险杠，自行车的车把等。滚镀适用于小件，紧固件、垫圈、销子等。连续镀适用于成批生产的线材和带材。
真空镀膜加工都使用那些工艺
电镀：电镀一般分为很多类，今天我们特别来说两类Z常用而且反响较好的工艺 -----PVD镀膜和水电镀
真空镀膜操作:等待真空镀膜部件上架并装上钨丝，然后进入炉膛，检查接触是否良好，旋转正常，关闭真空镀膜真空室，抽真空。在真空室中，材料的原子与热源隔离，并撞击到镀物体的表面。真空镀膜加工中可以加工出来很多产品
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