硅料清洗机设备
现在产业的不断扩大使得硅料的需求量急剧增加，硅料在运用也加大了硅料清洗的需求，但是这种材料需要专门的硅料清洗机来对其进行清洗。那么同时对硅料清洗机的需求量也增大了不少。但是不是说所有的硅料清洗机都是好的，他也是有许多的清洗方法的。
很多企业开发并生产硅料清洗机，所以目前市面上有多种用于太阳能硅料清洗的工艺，比如超声清洗法、RCA标准清洗、兆声清洗法、
硅片酸洗设备
硅料清洗机设备
现在产业的不断扩大使得硅料的需求量急剧增加，硅料在运用也加大了硅料清洗的需求，但是这种材料需要专门的硅料清洗机来对其进行清洗。那么同时对硅料清洗机的需求量也增大了不少。但是不是说所有的硅料清洗机都是好的，他也是有许多的清洗方法的。
很多企业开发并生产硅料清洗机，所以目前市面上有多种用于太阳能硅料清洗的工艺，比如超声清洗法、RCA标准清洗、兆声清洗法、高压喷射法、离心喷射法、等离子清洗、气相清洗、激光束清洗等等，形成了百花齐放的势态。使用何种清洗工艺方法，需要根据不同客户不同硅片上的表面状态、洁净度、污染情况等进行选择。据反馈，在众多的清洗方法中，硅料清洗机使用较多的是超声波清洗法与RCA标准清洗法。
湿法刻蚀设备
是一种刻蚀方法，主要在较为平整的膜面上刻出绒面，从而增加光程，减少光的反射，刻蚀可用稀释的盐酸等湿法刻蚀是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术。简单来说，就是中学化学课中化学溶液腐蚀的概念，它是一种纯化学刻蚀，具有优良的选择性，刻蚀完当前薄膜就会停止，而不会损坏下面一层其他材料的薄膜。由于所有的半导体湿法刻蚀都具有各向同性，所以无论是氧化层还是金属层的刻蚀，横向刻蚀的宽度都接近于垂直刻蚀的深度。这样一来，上层光刻胶的图案与下层材料上被刻蚀出的图案就会存在一定的偏差，也就无法高质量地完成图形转移的工作，因此随着特征尺寸的减小，在图形转移过程中基本不再使用。目前，湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准备、清洗等不涉及图形的环节，而在图形转移中干法刻蚀已占据主导地位。
超声波清洗机橡胶工业：
需要清洗的产品：手套、带子、白轮胎、橡胶制品、橡胶成型金属模/陶瓷模等
污染源：指纹、尘垢、防腐剂、油墨、染料、塑料残留物、橡胶残渣
使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂；纯水
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
公共事业、电力、煤气、新闻通讯行业：
需要清洗的产品：各类计量仪表、功率计、各类照明灯具、、隔电瓷瓶、通讯设备关键零部件等
污染源：油墨、油、灰尘、线头、锈、泥、海盐
使用清洗剂：有机洗涤剂；轻油（石油系洗涤剂）；碱性洗涤剂、中性洗涤剂
按频率波可以分为三种，即次声波、声波、超声波。次声波的频率为20Hz以下；声波的频率为20Hz~20kHz；超声波的频率则为20kHz以上。其中的次声波和超声波一般人耳是听不到的。超声波由于频率高、波长短，因而传播的方向性好、穿透能力强，这也就是设计制作超声波清洗机的原因。
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