真空电镀是一种物理沉积现象，就是在真空状态注入ya气，ya气撞击靶材，靶材分离成分子被导电货品吸附形成一层均匀光滑的表面层，镀膜因微细铝粒中可能仍含有残留气体而令其失去光泽，也会大大降低镀膜与底油的密着性。如真空度高，而且钨丝的温度亦高时，蒸发铝的运动能量也因此会提高，被镀膜件表面所附着的会是纯铝(并没有残留气体)，而且密度非常高，镀膜性能因此而得到提升(包括密着性等)。
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真空电镀是一种物理沉积现象，就是在真空状态注入ya气，ya气撞击靶材，靶材分离成分子被导电货品吸附形成一层均匀光滑的表面层，镀膜因微细铝粒中可能仍含有残留气体而令其失去光泽，也会大大降低镀膜与底油的密着性。如真空度高，而且钨丝的温度亦高时，蒸发铝的运动能量也因此会提高，被镀膜件表面所附着的会是纯铝(并没有残留气体)，而且密度非常高，镀膜性能因此而得到提升(包括密着性等)。电镀件丝印公司
真空电镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属，通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低( 10-5Pa )。
镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%。电镀件丝印公司
真空镀加工的等离子扩渗镀膜设备及技术;
离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。 等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮，氮碳共渗) 等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。
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如何加强真空电镀设备的日常管理电镀过程必须计划管理，才能保证产品从毛坯投入生产到电镀成品完成，能按质、按量、按时地有规律、有步骤正常运行，即每一工序定时、定量进出槽，每一生产周期能正常出产品，每班、每天、每周、每月按生产计划正常运转，原、辅材料能定时添加(特别是各种)，镀液定期净化处理，设备定期检查及维护等。电镀件丝印公司
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