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河北贵金属靶材工艺来电垂询 沈阳东创

半导电胶辊通常用在复印机、电子传真装置等办公设备中。王水在溶解了贵金属的溶液中有大量的残余和硝基物的存在给后续提炼或精炼贵金属带来操作困难或失败,严重影响贵金属的提炼或精炼工艺顺利进行,严重影响贵金属回收率,故王水贵金属溶液的浓缩赶硝是紧随溶解其后的务必工序。半导电胶辊属于半导电元件,且电阻值受环境影响较大,对产品的导电性要求极其严格,因为打印的全过程是碳粉通过电场的压力来
贵金属靶材工艺







半导电胶辊通常用在复印机、电子传真装置等办公设备中。王水在溶解了贵金属的溶液中有大量的残余和硝基物的存在给后续提炼或精炼贵金属带来操作困难或失败,严重影响贵金属的提炼或精炼工艺顺利进行,严重影响贵金属回收率,故王水贵金属溶液的浓缩赶硝是紧随溶解其后的务必工序。半导电胶辊属于半导电元件,且电阻值受环境影响较大,对产品的导电性要求极其严格,因为打印的全过程是碳粉通过电场的压力来实施,所以轻微的电性误差将导致在打印过程中文字和图片深浅不一的现象。因此需精密的量测,故要求有一套高精密的量测系统来支持,方能达到产品的设计要求。





背靶的选择

对材质的要求:一般选用无氧铜和钼靶,厚度在3mm左右

导电性好:常用无氧铜,无氧铜的导热性比紫铜好;

强度足够:太薄,易变形,不易真空密封。

结构要求:空心或者实心结构;

厚度适中:3mm左右,太厚,消耗部分磁强;太薄,容易变形。

铟焊绑定的流程

1.绑定前的靶材和背板表面预处理

2.将靶材和背板放置在钎焊台上,升温到绑定温度

3.做靶材和背板金属化

4.粘接靶材和背板







烧结法:ITO靶材烧结制作法是在以铟锡氧化物共沉淀粉末或氧化铟和氧锡混合粉末为原料,加入粘结剂和分散剂混合后,压力成型,脱脂,然后于1400℃---1600℃烧结。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。烧结法设备投入少,成本低,产品密度高、缺氧率低,尺寸大、但制造过程中对粉末的选择性很强。

ITO靶制备的透明导电薄膜广泛应用于数码相机、投影电视、数码显示的各种光学系统中,需求量都很大。








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