镀膜材料一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
真空镀膜主要利用辉光放电将气离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。
真空镀膜运用是真空运用中的一个大支系，在电子光学、电
尼龙真空镀膜
镀膜材料一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
真空镀膜主要利用辉光放电将气离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。
真空镀膜运用是真空运用中的一个大支系，在电子光学、电力电子技术、物理化学仪器设备、包裝、机械设备及其金属表面处理技术性等诸多层面拥有 十分普遍的运用。真空镀膜运用，简易地了解便是在真空自然环境下，利用蒸镀、磁控溅射及其接着凝固的方法，在金属材料、夹层玻璃、瓷器、半导体材料及其塑件等物件上镶上金属材料塑料薄膜或是是土壤层。
真空镀膜加工则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
激光束蒸发源蒸镀法：
采用激光束蒸发源的蒸镀技术是一种理想的涂层制备方法，是利用激光束作为热源加热蒸镀的一种涂层制备技术，激光器置于真空室之外，高能量的激光束透过窗口进入真空室中，经透镜聚焦之后照射到靶材上，使之加热气化蒸发并沉积在基片上。
优点：
1、简化了真空室内部的空间布置，减少了加热源的放气，而且还可避免蒸发气对被镀材料的污染，达到了涂层纯洁的目的。
2、激光加热可以达到极高的温度，利用激光束加热能够对某些合金或化合物进行蒸发。这对于保证涂层的成分，防止涂层的分馏或分解也是极其有用的。
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