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PC真空电镀中心来电垂询「泓瑞」

硬质合金涂层常用的方法是高温化学气相沉积法(简称HTCVD法),是在常压或负压的沉积系统中,将纯净的H2、CH4、N2、TiCl4、 AlCl3、CO2等气体或蒸气,按沉积物的成分,将其中的有关气体,按一定配比均匀混合,依次涂到一定温度(一般为1000℃~1050℃)的硬质合金 刀片表面,即在刀片表面沉积TiC、TiN、Ti(C,N)或Al2O3或它们的复合涂层。PC真空电镀中心
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硬质合金涂层常用的方法是高温化学气相沉积法(简称HTCVD法),是在常压或负压的沉积系统中,将纯净的H2、CH4、N2、TiCl4、 AlCl3、CO2等气体或蒸气,按沉积物的成分,将其中的有关气体,按一定配比均匀混合,依次涂到一定温度(一般为1000℃~1050℃)的硬质合金 刀片表面,即在刀片表面沉积TiC、TiN、Ti(C,N)或Al2O3或它们的复合涂层。PC真空电镀中心


对于一个固定化学镀镍本方了,那么含磷量就基本已经固定在一个范围内了,比如我们选择的是一个高磷配方,它的磷含量是10-13%左右,那么在操作的过程中磷的含量就基本是在这一个范围里面上下浮动,但不会超出太多。在塑胶真空电镀的电镀加工为了获得稳定的镀速与镀层质量,工艺参数如浓度,温度,PH都是固定在一个较小的范围内,那么我们还可以通过调整化学镀镍液的成分与含量来提高或降低镀镍层的磷含量。PC真空电镀中心


塑胶真空电镀的镀镍层磷,塑胶真空电镀的化学镀镍层中的磷含量是一个重要因素,它极大程度影响到镍镀层的电阻率,以及防腐性能等,对于一个固定化学镀镍本方了,那么含磷量就基本已经固定在一个范围内了,比如我们选择的是一个高磷配方,它的磷含量是10-13%左右,我们可以在一定程度内多加些苹果酸,就能在一理范围程度内提高化学镍镀层的磷含量。PC真空电镀中心


真空电镀加工过程如何防止渗漏
真空电镀加工过程中要是出现渗漏的情况,会影响环境,导致环境受到污染,那么在电镀加工过程中,有哪些方法能防止渗漏情况的发生呢如何正确的处理呢

  1.减轻镀液大处理时的损耗。镀液大处理过程中若不加以注意,则镀液的损耗量是相当大的,通常的损耗量达2%-3%,即1000L镀液经处理之后往往需补充20~30L纯净水,及相应的化工材料,才能恢复到原来的液位和原来的浓度,操作时若能细心一点,机械过滤与手工过滤相配合,让镀液尽可能由槽底的沉淀物中滤出来,则可大大减轻镀液的损耗,从而既节省材料的损耗,又能大大改善对环境的污染程度。
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