随着的设备和工艺的发展，使纳米量级的测量成为可能。例如，变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度，目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域，已生产出线宽在亚微米量级的集成电路，提出测量准确率小于50纳米的精度要求。这样的应用对系统中不同元件相关配合精度和稳定性提出了极高的要求。例如，用显微镜对图像进行高度放大的成像系统，显微镜和照像物镜共同决定了相纸上每点的图像。如果，在
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随着的设备和工艺的发展，使纳米量级的测量成为可能。例如，变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度，目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域，已生产出线宽在亚微米量级的集成电路，提出测量准确率小于50纳米的精度要求。这样的应用对系统中不同元件相关配合精度和稳定性提出了极高的要求。例如，用显微镜对图像进行高度放大的成像系统，显微镜和照像物镜共同决定了相纸上每点的图像。如果，在曝光过程中光学系统的每一部分(照明系统、样品、显微镜光学系统、成像光学系统和相纸平面)都准确地一同移动，不存在相对位移，成像也会很清晰。如果样品相对物镜产生了运动，则像就会模糊。在光学干涉测量、全息及运用相似的规律时，控制相对运动都是很重要的。
在一个理想的刚性体内部(只在理论上存在)，任何两点的相对位置都是不变的。也就是说，在振动、静力矩或温度变化的情况下，任何实体的尺寸和形状都是不变的。如果所有的元件都稳固地连接成一个理想的刚性体，不同元件之间没有相对位移，系统的性能也会很稳固。理想的刚性体是不存在的。现实中的系统只能近似的认为是刚性的，因此，其稳定性就要受到多方面因素的影响。例如外界的振源，系统的重量，光学平台的结构等等。
平面度（Surface Flatness）：光学平台的平面度，通常是指单位面积内，被测实际表面相对其理想平面的变动量。通常国外光学平台的平面度指标为：±0.1mm/600mm×600mm，中航世纪的光学平台，通过精密磨削工艺，将平面度指标提高到0.02 ～ 0.05mm/600mm×600mm。但严格意义上来说，光学平台平面度，对于隔振性能，没有任何影响，甚至若为了追求高平面度，往往会牺牲掉光学平台的隔振性能。
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