高纯供气系统信息推荐「艾明坷」

实验室气体的危险性

1.有部分气体具有毒、强腐蚀等特性，其一旦泄漏，就可能会对工作人员及仪器设备造成伤害；

2.多种气体在同一个环境下使用，如果有两种会发生燃烧或爆1炸等强烈化学反应的气体同时泄漏，就可能对工作人员以及仪器设备造成伤害；

3.多数气瓶出口压力1高可达15MPa，即150公斤/cm2，如果发生气瓶口减压装置失灵，就有可能将一些部件激1射出去，其能量对人体或设备都具有致命性的伤害。

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小流量气体净化系统

高纯供气系统主要应用于钢瓶气、管道气及气体发生器等的高纯连续供气，应用于超微量水、氧分析仪、气相色谱仪、常压离子质谱仪等各类气体分析仪器纯化载气或零点气，也可用于超高纯度气体管道安装施工中的吹扫气体，更可以为半导体工艺设备提供超高纯的工艺气体。使用者只需管理较少的气瓶，支付较少的气瓶租金，因为使用同一气体的所有使用点来自于同一个气源。

气体净化系统根据需求采用常温或者高温吸附剂，电化学抛光316L不锈钢管件，出气口配置微米过滤器，其气体纯化指标达到各项杂质含量小于1ppb的世界水平。

气体配比仪采用质量流量计，电化学抛光316L不锈钢管件，双卡套或者VCR气体接头。

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高纯供气系统

持续和及时。集中供气系统采用手动、半自动或全自动切换系统，平时每个供气源为一开一备状态，可根据仪器工作条件对局部或整体气体压力、流量进行调节，能保证仪器用气的流量和压力的稳定性、持续性，也能保证量值传递不发生变化。

扩展性灵活。集中供气管道上可预留接气点以及能够扩展的点，并安装控制开关或堵头，方便扩展。所有用气的仪器前端均装控制阀。因此，可以在不影响其他仪器正常工作的情况下，扩展新的用气端点。

集中供气系统需要规划设计一个独立的气瓶室，根据实验室的布局和用气情况在实验室的每层或几层设置一个气瓶室，也可在实验室外部设计一个为整个实验室供气的气瓶室，钢瓶储存区应合理布置，保持可燃性容器和助燃性容器间的安全间距。气瓶室墙宜采用实体结构，门应设计为防爆门，安装防爆灯以及防爆风机，万一发生事故可减少实验室区域的破坏性。存放钢瓶屋内不宜吊顶。气瓶室内还应设有气体泄漏、低压换气报警设施，及排风装置，同时设计时还应考虑防雷、防静电、空调设备等设施。电子行业常用的特气超过三十余种，按危险性质可分为不燃气体、可燃气体、氧化性气体、腐蚀性气体、毒性气体等。为了保证气体纯度和压力的稳定性，需采用多级减压方式供气，宜设置气路吹扫、排空、杂质过滤、水分和油汽净化等装置，有条件的可采用双气源自动切换模式供气。