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等离子化学气相沉积来电垂询 拉奇纳米镀膜

真空镀膜加工的常用办法 (1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气到达约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。 (2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的离子碰击阴极,使其射出原子,溅射
等离子化学气相沉积






真空镀膜加工的常用办法

(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气到达约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。

(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的离子碰击阴极,使其射出原子,溅射出的原子经过惰性气氛堆积到基体上形成膜。

真空镀膜加工适用于那些地方

镀膜常用在相机镜头、近视、、老花镜等纠正眼镜上运用。

镀膜是在外表镀上非常薄的通明薄膜。目的是希望削减光的反射,添加透光率,抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同色彩的镀膜,也使的成像色彩平衡的不同。此外,镀膜尚可推迟镜片老化、变色的时间。









真空镀膜技能一般分为两大类,即物理气相堆积(PVD)技能和化学气相堆积(CVD)技能。

物理气相堆积技能具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。
化学气相堆积技能是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供应基体,凭借气相作用或基体外表上的化学反应,在基体上制出金属或化合物薄膜的办法,主要包含常压化学气相堆积、低压化学气相堆积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相堆积等。



真空蒸发镀膜设备用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品外表蒸镀金属薄膜(镀铝、铬、锡、不锈钢等金属)、七彩薄仿金膜等,然后取得亮光、漂亮、;价廉的塑料,陶瓷外表金属化制品。广泛使用于轿车、摩托车灯具、工艺美术、装潢装修、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟、女式鞋后跟等范畴。


一、真空电镀加工的镀层厚度均匀致密。 无论工件如何复杂,均可在工件上得到均一镀层,其镀层精度可达±1微米。

二、各种基体材料均可处理,包括金属、半导体及非金属。




请问PVD镀膜能否代替化学电镀

在现阶段,PVD镀膜是不能取代化学电镀的,并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外,在很多其他材料(如锌合金、铜、铁等)的工件上进行PVD镀膜前,都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。PVD镀膜主要应用在一些比较的五金制品上,对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。







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