净化工程定义
净化工程是指控制产品 (如硅芯片等) 所接触大气的洁净度及温湿度,使产品能在一个良好的环境空间中生产、制造。此环境空间的设计施工过程即可称为净化工程。
净化工程分类
乱流式、层流式(水平层流式、垂直层流式)、复合式(洁净隧道、洁净管道、并装局部洁净室)
赛达净化坚持秉承以科技为先导、以市场为导向的科学管理理念,凭借规范化管理
印刷车间净化工程
净化工程定义
净化工程是指控制产品 (如硅芯片等) 所接触大气的洁净度及温湿度,使产品能在一个良好的环境空间中生产、制造。此环境空间的设计施工过程即可称为净化工程。
净化工程分类
乱流式、层流式(水平层流式、垂直层流式)、复合式(洁净隧道、洁净管道、并装局部洁净室)
赛达净化坚持秉承以科技为先导、以市场为导向的科学管理理念,凭借规范化管理及的技术力量在食品、药品、化妆品、微电子等诸多工业领域设计承建了洁净SC厂房、GMP厂房、无菌室、实验室及相关配套产品。我们的宗旨:!诚信!!
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。赛达净化坚持秉承以科技为先导、以市场为导向的科学管理理念,凭借规范化管理及的技术力量在食品、药品、化妆品、微电子等诸多工业领域设计承建了洁净SC厂房、GMP厂房、无菌室、实验室及相关配套产品。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产的湿度范围为35—45%。
净化工程是各个行业中被使用的一种技术,每一个环节都决定着是否能够达到洁净室的标准,相对来说是比较严谨的一项工程。净化工程是在一定空间范围内,将空气中的微粒子、有害空气、细菌等污染物排除,并将室内温度、洁净度、压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内的工程学科。气压规定对于大部分洁净空间,为了防止外界污染侵入,需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。
这不是一般的工程,是对环境空气、水、噪音、照明、菌落、静电、振动、温度、湿度等各项内容进行严格控制的,而不是普通的施工。
“那就是环保,不就是废气废水处理么,就是环保!
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