真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀
防水纳米镀膜
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
真空镀膜技能在塑料制品的运用上Z为广泛。塑料具有易成型,成本低,质量轻,不腐蚀等特点,因而塑料制品运用广泛,但因其缺点制约了扩大运用,如不漂亮、易老化、机械性能差、耐热差、吸水率。经过真空镀膜技能的运用,使塑料外表金属化,将有机资料和无机资料结合起来,大大进步了它的物理、化学性能。
真空镀膜技能长处主要表现在以下几个方面:
一、改进漂亮,外表光滑,金属光泽五颜六色化,装修性大大进步;
二、改进外表硬度,原塑胶外表比金属软而易受损害,经过真空镀膜,硬度及性大大添加;
真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或化学方法,使物体表面获得所需的涂层,目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域。真空镀膜技术也是PVD涂层的常用制备方法,如真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法(PVD),是基本的涂层制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以真空技术是涂层制作技术的基础,获得并保持所需的真空环境,是镀膜的必要条件。
目前,薄膜制程技术广泛应用于半导体工业及精密机械上,由于利用薄膜制程技术所生产的产品具有很高附加价值,使薄膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际,同时带来镀膜技术的迅速发展。通常,镀膜方法主要包括离子镀膜法、磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。然而,随着集成电路的密集及微型化,精密机械的精度提升,对于镀膜厚度要求愈渐严苛。
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