何为半导体去胶？
半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中，各类光刻胶的等离子去除，去除材料表面污染物，保证与其他材料的结合能力。微波等离子去胶机可以去除各类光刻胶。
微波等离子清洗机,半导体去胶
何为半导体去胶？ 半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中，各类光刻胶的等离子去除，去除材料表面污染物，保证与其他材料的结合能力。晟鼎微波等离子去胶机可以去除各类光刻胶。 除胶之外，晟鼎微波等离子清洗机还有什么应用？ ·FC封装微波等离子处理 ·金属键合前处 ·晶圆表面活化 技术壁垒高，危机和机遇并存 · 技术壁垒较高，美、日、韩形成垄断 · 绝大部分外购微波半导体等离子发生器 · 价格昂贵 · 交付周期超过半年 · 服务无法及时响应 晟鼎自主研发微波去胶机 掌控技术 · 国内自有自主研发微波去胶机； · 磁流体旋转架，保证处理效果均匀； · 微波无放电电极，效率好均匀，保证刻蚀率； · 低温等离子体，避免产生热损伤； · 自偏压要求低，微波结和磁路可以兼容。 技术+服务 实现国产替代 技术保障 自有微波半导体去胶发生器技术，并可提供双电源技术（MW+Bias RF）解决微波等离子清洗机客制化问题。 服务保障 · 研发实力 研发实力强的半导体研发团队，并拥有多位十五年以上半导体从业经验的工程师。 华南理工大学等离子技术联合实验室，多位博士生导师担任项目技术顾问； 四川大学半导体项目战略合作伙伴； ·客制化方案 多行业客制化方案经验；产品系列完整，可满足不同客制化需求。 ·全流程服务 晟鼎销售、技术、售后项目组全流程服务；有素的售后服务团队辐射。 · 价格有一定优势 降本30%以上，产品完全符合行业标准。
（作者：黄女士 来源：东莞市晟鼎精密仪器有限公司）
