真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
首先在光学方面，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者
派瑞林镀膜技术
真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
首先在光学方面，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料，也可以作成对某种波长的吸收，而对另一种波长的透射的滤。
真空镀膜加工都使用那些工艺
电镀：电镀一般分为很多类，今天我们特别来说两类Z常用而且反响较好的工艺 -----PVD镀膜和水电镀
真空镀膜操作:等待真空镀膜部件上架并装上钨丝，然后进入炉膛，检查接触是否良好，旋转正常，关闭真空镀膜真空室，抽真空。在真空室中，材料的原子与热源隔离，并撞击到镀物体的表面。真空镀膜加工中可以加工出来很多产品
相对性于传统式镀膜方法，真空镀膜运用归属于一种干试镀膜，它的关键方式包含下列几类：真空蒸镀其基本原理是在真空标准下，用空调蒸发器电加热带挥发化学物质，使其汽化或提升，挥发离子流立即射向基片，并在基片上沉积进行析出固体塑料薄膜的技术性。磁控溅射镀膜磁控溅射镀膜是真空标准下，在负极接好2000V直流电，激起电弧放电，带正电荷的正离子碰撞负极，使其射出去分子，磁控溅射出的分子根据可塑性氛围沉积到基片上产生膜层。
PVD镀膜主要分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。PVD镀膜和传统化学电镀的区别：
相同点：两种都是属于表面处理，通过一定的方法使材料覆盖在另一种材料的表面上。
不同点：PVD镀膜的结合力更大，硬度更高，抗腐蚀性和性也更好，另外不会产生有毒的物质。
PVD镀膜技术主要应用的行业有哪些？
装饰方面：主要为了外观的光泽度和抗腐性。如卫浴五金、门锁、门窗五金等。
工具方面：主要是提高工具表面硬度，降低摩擦系数，延长使用寿命。如铣刀、钻头、车刀、螺丝刀、钳子等。
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