真空镀钛是指在真空的环境下，采用弧光放电，把阴极钛靶作为蒸发源，通过钛靶与阳极机体之间的弧光放电，使钛靶材蒸发并形成离子体，产生的离子体高速向产品上运动，在产品表面进行沉积，形成了钛膜层。解决方案：缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度管控，减少异物掉落在产品表面。要想镀出坚固的钛层，首先要有好的设备。因为在镀膜过程中，真空系统必需要工作稳定，炉体保压要好，如果在镀膜过程中
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真空镀钛是指在真空的环境下，采用弧光放电，把阴极钛靶作为蒸发源，通过钛靶与阳极机体之间的弧光放电，使钛靶材蒸发并形成离子体，产生的离子体高速向产品上运动，在产品表面进行沉积，形成了钛膜层。解决方案：缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度管控，减少异物掉落在产品表面。要想镀出坚固的钛层，首先要有好的设备。因为在镀膜过程中，真空系统必需要工作稳定，炉体保压要好，如果在镀膜过程中有杂气掺入，颜色就会不理想，严重的还会脱钛。
在靶材和衬底之间加上一个直流高压，极板间的气体（一般为Ar2）电离，高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。整卷镀色的优势：1色差小整卷材质、表面状态均一致，整卷颜色一致。要保持自持放电，在两极板间距为数厘米的正常溅射间距下，放电气压一般高达10帕，这对溅射效率和薄膜质量都是不利的。因此，直流溅射多采用非自持放电，也就是加入热电子发射极和辅助阳极的四极溅射，可使溅射在10-1～10-2帕的低气压下进行。
镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。象螺纹一类的零件也能镀复，有高硬度、高性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长。
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