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硅片清洗机的作业设计原理
清洗机的作业设计原理
硅片清洗机半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。 清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。蔬菜清洗机设备除电机、轴承等标准件外均采用不锈钢材
轴承清洗机厂
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硅片清洗机的作业设计原理
清洗机的作业设计原理
硅片清洗机半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。 清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。蔬菜清洗机设备除电机、轴承等标准件外均采用不锈钢材料制作,完全符合出口食品卫生要求。此外，工业清洗机还可以满足电镀前、热处理前后、产品安装前的清洗作业要求。通常，在一些工作量很大的清洗作业中，工业清洗机表现出很大的优势。其工作原理可以概括为:待清洗工件表面存在的油污、污垢等杂质，在清洗机喷射水的机械力作用下，在热能和金属清洁剂的配合下，逐渐变湿、软化、分离，然后污垢颗粒被清洗液带走，从而达到清洗的目的。
超声波清洗机可靠性要求
1、操作人员的安全保护 供货商应提出对于超声波清洗机操作人员的安全保护要求，并提供安全保护措施。
2、超声波清洗机可靠性要求
（1）要求有严谨、科学的人机工程设计，有效的保证整机的可靠性、稳定性。
（2）要求设计、技术成熟可靠、结构尽量紧凑、测试精度高。
（3）要求选用的计算机性能优越、配置可靠，操作使用时能够迅速完成运算。
3、可操作性、可维护性要求
（1）要求操作简便、具有良好的人机界面功能。超声波清洗机有显示屏，操作方便。
（2）要求节省能源，维护和使用成本低，力求免维护，外形美观大方。
（3）要求安全性高，使用寿命在10年以上。
超声波清洗机输出脉冲的宽度
超声波清洗机输出脉冲的宽度是通过电容CT上的正极锯齿波电压与别的两个操控信号进行对比来完成。功率输出管Q1和Q2受控于或非门。当双稳态触发器的时钟信号为低电平时才会被选通，即只要在锯齿波电压大于操控信号时期才能被选通。当操控信号增大，输出脉冲的宽度将削减。TL494电原理和脉冲调制电路构成如图2、图3所示[2]。
在本电路中只用到了TL494的差错放大器I，故将超声波清洗机差错放大器II 的IN+(16脚)接地、IN-(15脚)接高电平。为维护TL494的输出三极管，经R3和R4分压，在4脚加接近0.3V的间歇调整电压。R1、R2和 C1组成了相位校正和增益操控网络。
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