送风量大
洁净度的提高和维持是半导体器件厂房空调系统设计和运行的重要任务，这一任务的完成要依赖很高的送风量，是以高能耗为代价的。就送风量而言，一般办公大楼换气次数为10h-1左右，而大规模半导件器件厂房内，为了满足相应的洁净度要求，需要保证很高的换气次数，致使循环风量非常大。GMP车间净化工程对于乱流式洁净室减少室内污染主要是通过空气的稀释作用来完成的，因此，一般不用速度而是用换
净化手术室施工
送风量大
洁净度的提高和维持是半导体器件厂房空调系统设计和运行的重要任务，这一任务的完成要依赖很高的送风量，是以高能耗为代价的。就送风量而言，一般办公大楼换气次数为10h-1左右，而大规模半导件器件厂房内，为了满足相应的洁净度要求，需要保证很高的换气次数，致使循环风量非常大。GMP车间净化工程对于乱流式洁净室减少室内污染主要是通过空气的稀释作用来完成的，因此，一般不用速度而是用换气数来说的。100级洁净室的换气次数可选到400
h-1，10000级洁净室的换气次数日选到40 h-1，100000级洁净室的换气次数也要30 h-1。
(1)室内污染源：建筑物组件、人员数量及操作活动、工艺设备、工艺材料及工艺加工本身等都是尘粒释放源，根据具体情况而异，变化很大;
(2)净化工程室内气流流型及分布：单向流要求均匀、平等的流线，但会受到工艺设备布置和位置变动及人员活动情况等的干扰形成局部涡流;而非单向流要求充混合，避免死角及温度分层;
(3)自净时间(恢复时间)的控制要求：洁净室中事故释放或带入污染物或空气气流的中断或正常操作时的间歇性对流气流或人及设备的移动等都会造成洁净度的恶化，恢复到原来洁净度的自净时间决定于气流速度;对自净时间的控制要求取决于此时间框架内(恶化的洁净度下)，对产品生产的质量及成品率影响的承受能力;
(4)末级过滤器的效率：在一定的室内发尘量下，可采用较效率的过滤器以降低气流速度;为节能应考虑采用较效率的过滤器，并降低气流速度，或采用较低效率的过滤器并采用较高的气流速度，以求流量与阻力的乘积小。
净化车间之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触的大气的洁净度以及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为净化车间。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。净化系统构成：1、净化无尘车间，由空调和空气净化系统构成，也是净化系统的心脏。也就是说所谓无尘并非没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的影响，所以在光学构造产品的生产上，净化车间无尘是必然的要求。
每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准级。是颇具规模和技术实力的洁净技术领域的工程总承建商和设备供应商。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。5μm及以下的微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是俗称的1K级别。
在平时，工作人员除了需要定期进行盆浴或淋浴外，还应当定期洗头。保持身体的清洁，尽量减少死皮数量。（5）检查设备内表冷器是否有明显损坏，随机配套风量调节是否启闭正常，对表冷器碰歪的翅片应以校正。同时，在每次进入无尘车间之前，都应该对手进行的清洁。平时看起来挺干净的手，其实也是一大污染源，能够将污染物从一处传到另一处。在清洗的时候，尤其应该注意指甲、指甲根部和手上的伤处。
在高度洁净区域工作的人员，应该保证健康状况良好。避免将病毒带入无尘车间内，对无尘车间的环境造成破坏。
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