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二次电子是由于被入射电子“碰撞”而获得能量,逃出样品表面的核二次电子是由于被入射电子“碰撞”而获得能量，逃出样品表面的核外电子，其主要特点是：(1)能量小于50eV，较易被检测器前端的电场吸引，因而阴影效应较弱。(2)只有样品表面很浅（约10nm）的部分激发出的二次电子才能逃出样品表面,因此二次电子像分辨率较高。(3
天津场发射扫描电镜型号
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二次电子是由于被入射电子“碰撞”而获得能量,逃出样品表面的核
二次电子是由于被入射电子“碰撞”而获得能量，逃出样品表面的核外电子，其主要特点是：
(1)能量小于50eV，较易被检测器前端的电场吸引，因而阴影效应较弱。
(2)只有样品表面很浅（约10nm）的部分激发出的二次电子才能逃出样品表面,因此二次电子像分辨率较高。
(3)二次电子的产额主要取决于样品表面局部斜率，因此二次电子像主要是形貌像。
可看成由许多不同倾斜程度的面构成的凸尖、台阶、凹坑等细节组成，这些细节的不同部位发射的二次电子数不同，从而产生衬度。
二次电子像分辨率高、无明显阴影效应、场深大、立体感强，是扫描电镜的主要成像方式，特别适用于粗糙样品表面的形貌观察。
大视场、低倍数观察样品的形貌
观察厚试样：其在观察厚试样时，能得到高的分辨率和真实的形貌。观察试样的各个区域的细节：试样在样品室中可动的范围非常大，可以在三度空间内有6个自由度运动（即三度空间平移、三度空间旋转），这对观察不规则形状试样的各个区域带来极大的方便。在大视场、低放大倍数下观察样品，用扫描电镜观察试样的视场大：大视场、低倍数观察样品的形貌对有些领域是很必要的，如侦察和考古。
电子束引致电流(Electron
电子束引致电流(Electron-beam induced Current , EBIC)：当一个p-n接面(Junction)经电子束照射后，会产生过多的电子-空位对，这些载子扩散时被p-n接面的电场收集，外加线路时即会产生电流。阴极发光(Cathodoluminescence)：当电子束产生之电子-空位对再结合时，会放出各种波长电磁波，此为阴极发光(CL)，不同材料发出不同颜色之光。样品电流(Specimen Current)：电子束射到样品上时，一部份产生二次电子及背向散射电子，另一部份则留在样品里，当样品接地时即产生样品电流。
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