苏州晶淼半导体设备有限公司
是一家从事湿法制程设备研发、生产、销售、售后服务于一体的高新技术企业。历来秉承高起点、高目标、高要求、有的企业宗旨，致力于为半导体LED行业、光伏太阳能行业、LCD液晶行业以下行业提供蚀刻、清洗、显影、去膜、制绒、减薄等有设备，
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗
半导体清洗设备
苏州晶淼半导体设备有限公司
是一家从事湿法制程设备研发、生产、销售、售后服务于一体的高新技术企业。历来秉承高起点、高目标、高要求、有的企业宗旨，致力于为半导体LED行业、光伏太阳能行业、LCD液晶行业以下行业提供蚀刻、清洗、显影、去膜、制绒、减薄等有设备，
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
基片湿处理设备；硅片清洗刻蚀设备；硅片腐蚀台;湿台;全自动RCA清洗设备;外延钟罩清洗机；硅片电镀台；硅片清洗机；石英管清洗机；LED清洗腐蚀设备等。 光伏太阳能：全自动多晶硅块料腐蚀设备；多晶硅硅芯硅棒腐蚀清洗机；太阳能硅片切片后全自动腐蚀设备；太阳能硅片制绒酸洗设备；去磷硅玻璃清洗线；石英管酸洗设备等（含自动干燥功能、自动补液上液功能）。 LCD液晶：LCD液晶减薄设备；化学自动供液系统（CDS）；尾气处理设备及辅助设备；液晶玻璃清洗设备等。
RCA清洗法 ： 人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年，半导体清洗机， RCA（美国无线电公司）研发了用于硅晶圆清洗的RCA清洗法，并将其应用于 RCA元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础，以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于***的RCA清洗法。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF,,H2SO4,H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子,去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
EDC 系统具有可编程阀，它可以使单试剂滴胶按照蚀刻，开发和清洗应用的要求重复进行，如冲洗（通常是去离子水或溶剂），然后干燥（通常是氮气）等后面的处理步骤。蚀刻/显影/清洗全套系统采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在完全干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。
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