离子溅射镀膜原理及特点离子溅射镀膜原理：离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。特点：对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射（适合制备难蒸发材料，不易得到高纯度的化合物所
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离子溅射镀膜原理及特点
离子溅射镀膜
原理：离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。
特点：对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射（适合制备难蒸发材料，不易得到高纯度的化合物所对应的薄膜材料）；溅射所获得的薄膜和基片结合较好；溅射工艺可重复性好，膜厚可控制，同时可以在基片上获得厚度均匀的薄膜。
影响扫描电镜的分辨本领的主要因素
影响扫描电镜的分辨本领的主要因素有:
A.入射电子束光斑直径:扫描电镜分辨能力的极限一般来说,热阴极电子的小束斑直径可以减小到6nm,场发射电子可以使束斑直径小于3nm
B.入射电子束在样品中的膨胀效应:扩散程度取决于入射电子的能量和样品的原子序数束流能量越高,样品的原子序数越小,电子束的相互作用体积越大,信号产生区域随电子束的扩散而增大,从而降低了分辨率
C.使用的成像方式和调制信号:当二次电子作为调制信号时,由于其能量低(小于50ev),平均自由程短(10~100 nm左右),只有表面50-100nm范围内的二次电子才能从样品表面逸出,散射次数非常有限基本上不向侧面延伸,所以二次电子像的分辨率大约等于束斑直径.
电子的必要特性是亮度要高、电子能量散布(EnergySpr
电子的必要特性是亮度要高、电子能量散布 (Energy Spread) 要小，目前常用的种类计有三种，钨(W)灯丝、六硼化镧(LaB6)灯丝、场发射 (Field Emission)，不同的灯丝在电子源大小、电流量、电流稳定度及电子源寿命等均有差异。
热游离方式电子有钨(W)灯丝及六硼化镧(LaB6)灯丝两种，它是利用高温使电子具有足够的能量去克服电子材料的功函数(work function)能障而逃离。对发射电流密度有重大影响的变量是温度和功函数，但因操作电子时均希望能以低的温度来操作，以减少材料的挥发，所以在操作温度不提高的状况下，就需采用低功函数的材料来提高发射电流密度。
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