化学气相沉积的特点有哪些？
高温石英管反应器设计
温度范围：室温到1100度
多路气体准确控制
标准气压计
易于操作
可配机械泵实现低压TCVD
可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜
液体前驱体喷头
沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年化学气相沉积行业经验，专注化学气
ICP刻蚀机多少钱
化学气相沉积的特点有哪些？
高温石英管反应器设计
温度范围：室温到1100度
多路气体准确控制
标准气压计
易于操作
可配机械泵实现低压TCVD
可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜
液体前驱体喷头
沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年化学气相沉积行业经验，专注化学气相沉积研发定制与生产，的化学气相沉积生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话！！！
等离子体化学气相沉积原理及特点
原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，基体浸没在等离子体中或放置在等离子体下方，吸附在基体表面的反应粒子受高能电子轰击，结合键断裂成为活性粒子，化学反应生成固态膜。沉积时，基体可加热，亦可不加热。工艺过程包括气体放电、等离子体输运，气态物质激发及化学反应等。主要工艺参数有：放电功率、基体温度、反应压力及源气体成分。主要特点是可显著降低反应温度，已用于多种薄膜材料的制备。
以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多化学气相沉积的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。
ICP刻蚀机的测量与控制
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售ICP刻蚀机，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
由于等离子刻蚀工艺中的过程变量，如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗，等等，不易测量，因此业界常用的测量方法有：
虚拟测量（Virtual Metrology）
等离子刻蚀过程控制示意图
光谱测量
等离子阻抗监控
终端探测
远程耦合传感
控制方法
run-to-run 控制（R2R）
模型预测控制（MPC）
人工神经网络控制
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