光刻技术能够 说每一构件全是技术含量很高，步步重重困难。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1。
短板关键集中化在镜片、掩膜版、灯源、动能控制板等。
下边简单单详细介绍光刻技术的构造和原理：
光刻技术的灯源有：激光器，紫外线、深紫外线、极紫外线。如今优i秀技术性是极紫外线。
图为要以激光器为灯源的光刻技术简单工作中电路原理图：
在生产制造集成ic
普通苏打铬板
光刻技术能够 说每一构件全是技术含量很高，步步重重困难。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1。
短板关键集中化在镜片、掩膜版、灯源、动能控制板等。
下边简单单详细介绍光刻技术的构造和原理：
光刻技术的灯源有：激光器，紫外线、深紫外线、极紫外线。如今优
i秀技术性是极紫外线。
图为要以激光器为灯源的光刻技术简单工作中电路原理图：
在生产制造集成ic时，
i先在圆晶（硅芯片）表层涂光感胶，再用光源穿透掩模板（等于集成ic电路图纸的胶片照片）直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。自此用特殊有机
i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。
此全过程等于木工施工用墨斗施工放样、画线。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
掩膜的用法
1 提取感兴趣区：用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0；
2 屏蔽作用：用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；
3 结构特征提取：用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征；
4 特殊形状图像的制作。
接触光刻技术中使用的掩模的表面特征图案的尺寸与实际掩模的尺寸相同。菲林film方∶胶卷，摄影用的感光片和胶卷，电影用软片，是旧时对film的翻译，现一般是指胶卷，也可以指印刷制版中的底片。
i
在衬底上形成的图案是1∶1，并且以直接接近光致抗蚀剂层表面的方式曝光
i
光线；另一方面，缩微技术中使用的掩模具有表面特征图案的实际尺寸。
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在衬底上形成的图案的几次通过光学系统投影模式曝光
i
光明。
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