真空镀膜机离子镀是什么
很多人听说过离子真空镀膜机，但是对于真空镀膜机离子镀了解甚少，离子镀是一种镀膜工艺中的一种，下面为大家详细介绍一下：首先给大家它定义：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。
它的原理是：蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之
PVD中频离子镀膜设备
真空镀膜机离子镀是什么
很多人听说过离子真空镀膜机，但是对于真空镀膜机离子镀了解甚少，离子镀是一种镀膜工艺中的一种，下面为大家详细介绍一下：首先给大家它定义：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。
它的原理是：蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性Ar气，在放电电场作用下部分Ar气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的Ar离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同Ar离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
它能分为四类：①磁控溅射离子镀。②反应离子镀。③空心阴极放电离子镀。④多弧离子镀。
它的特点：镀层附着性能好，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生；绕镀能力强，因此这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝，等其他方法难镀的部位；镀层质量好，离子真空镀膜机镀膜的镀层组织致密、无孔、无气泡、厚度均匀；清洗过程简化。
真空镀膜机光学镀膜加工上有什么要注意的吗
段时间有一个采购光学镀膜机的客户签订协议的时候，咨询我这个问题，真空镀膜机光学镀膜加工有没有什么需要注意的地方。在签订协议完成的一个环节，我们的销售培训了大量的设备相关的操作知识和注意事项，客户也学到了不少相关的知识。今天至成真空小编也再次详细和大家讲解一下真空镀膜机光学镀膜加工上应该注意的事项，加强大家的设备方面的知识和技能。
真空镀膜机光学镀膜加工上有什么要注意的吗？当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5%会被反射掉，在光学镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5%，多层增透膜则可让反射降低至0.25%，所以整个准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。
真空镀膜机增透膜增加透射光强度的实质是作为电磁波的光波在传播的过程中，在不同介质的分界面上，由于边界条件的不同，改变了其能量的分布。对于单层薄膜来说，当增透膜两边介质不同时，薄膜厚度为1/4波长的奇数倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)时（分别是介质1、2的折射率），才可以使入射光全部透过介质。一般光学透镜都是在空气中使用，对于一般折射率在1.5左右的光学玻璃，为使单层膜达到的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；还要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一个波长。单层膜只对某一特定波长的电磁波增透，为使在更大范围内和更多波长实现增透，人们利用镀多层膜来实现。
人们对增透膜的利用有了很多的经验，发现了不少可以作为增透膜的材料；同时也掌握了不少的镀膜技术，因此增透膜的应用涉及医学、军事、太空探索等各行各业，为人类科技进步作出了重大贡献。
磁控溅射真空镀膜机生产相关知识
跟镀膜行业有接触的工作人员，几乎人人都知道磁控溅射技术，它在现今市场应用非常广泛，各行各业镀膜层都大量投入使用，获得众多商家和客户的认可。今天至成小编为大家详细介绍一下磁控溅射真空镀膜机生产方面的相关知识。磁控溅射真空镀膜机生产实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了、有机光电器件和电路的制备。
控制系统特点：
1）采用具有超温偏差保护、磁控溅射生产数字显示的微电脑P.I.D温度控制器，带有定时功能，控温精准可靠。
2）超温保护、定时停机、来电恢复、温度修正等功能。
3）具有断电恢复功能，在外电源突然失电又重新来电后，磁控溅射真空镀膜机可自动按原设定程序恢复运行。安全装置：A）虑周全的安全保护设计，实现对人员、样品和设备的三重安全保护。B）全功能：传感器故障报警、超温报警、独立式过升防止器、独立式超温保护器、过电流跳闸保护等。
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