真空镀膜的介绍
薄膜具有许多特有的性质，因此引起了科学工作者的极大关注．近年来，薄膜的研究和应用得到了迅速的发展，并且己形成一个专门的物理学分支一—薄膜物理学。
真空镀膜是一种在许多领域(如电子工业、光学仪器制造、薄膜研究等)中有着广泛应用的实用技术．真空镀脂较之传统的电镀、化学镀具有许多优越性，如纯度高、均匀性好、膜厚可以严格控制、材料种类多样．既可镀金属膜、又
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真空镀膜的介绍
薄膜具有许多特有的性质，因此引起了科学工作者的极大关注．近年来，薄膜的研究和应用得到了迅速的发展，并且己形成一个专门的物理学分支一—薄膜物理学。
真空镀膜是一种在许多领域(如电子工业、光学仪器制造、薄膜研究等)中有着广泛应用的实用技术．真空镀脂较之传统的电镀、化学镀具有许多优越性，如纯度高、均匀性好、膜厚可以严格控制、材料种类多样．既可镀金属膜、又可以镀介质膜，而且制备方法简单。
工艺气体输入系统
工艺气体，一般均由气瓶供应，经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀，然后通入真空室。这种气体输入系统的优点是，管路简捷、明快，维修或更换气瓶容易。各涂层机之间互不影响。也有多台涂层机共用一组气瓶的情况，这种情况在一些规模较大的涂层车间可能有机会看到。它的好处是，减少气瓶占用量，统一规划、统一布局。缺点是，由于接头增多，使漏气机会增加。而且，各涂层机之间会互相干扰，一台涂层机的管路漏气，有可能会影响到其他涂层机的产量。真空镀膜机在塑料制品应用极其广泛，塑料制品具备易成型，成本比较低，质量轻，不腐蚀等等特点，塑料制品应用广泛，但因为缺点制约了扩大应用，例如不美观、容易老化、机械性能差等等的问题。此外，更换气瓶时，必须保证所有机台都处于非用气状态。
真空气相沉积制备碲化镉薄膜的电学和光学特性
CdTe属一V族化合物半导体其结构与Si、Ge有相似之处，即其晶体主要靠共价键结合，但又有一定的离子性，与同一周期的W族半导体相比，CdTe的结合强度很大。因此，在常温下，CdTe半导体的导电性主要由掺杂决定。同时薄膜的组分、结构和热处理工艺对CdTe薄膜的电阻率和导电类型也有很大影响。真空镀膜机的应用范围覆盖了广阔的领域，包括电子产品、日用品以至于任何需要表面处理镀膜的产品。
CdTe具有直接带隙结构。对于波长小于吸收限的光，CdTe膜有很高的光吸收系数，只要薄膜厚度达到识m左右，足以吸收hu>1. 45eV的大部分阳光，从而降低了对材料扩散长度的要求。
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