压延铜箔的生产状况
压延铜箔在当今的电子信息技术这块上面的应用可谓是显得越来越重要，主要是在于其能够满足当今不断发展的电子技术上的要求，在现在其铜箔制造的相关领域上的电解铜箔占统治地位的基础之上，又需要重视压延铜箔了，压延铜箔相对于电解铜箔来说主要就是在生产工艺及成本，在生产技术水平及难度上面目前还是处于一种比较空白和靠前的，目前国内能够生产压延铜箔并且具备的技术水平
黑色醋酸布
压延铜箔的生产状况
压延铜箔在当今的电子信息技术这块上面的应用可谓是显得越来越重要，主要是在于其能够满足当今不断发展的电子技术上的要求，在现在其铜箔制造的相关领域上的电解铜箔占统治地位的基础之上，又需要重视压延铜箔了，压延铜箔相对于电解铜箔来说主要就是在生产工艺及成本，在生产技术水平及难度上面目前还是处于一种比较空白和靠前的，目前国内能够生产压延铜箔并且具备的技术水平的企业还很少，或者说处于起步的阶段，根本不能够满足目前国内兴起的电子信息技术行业的需求。目前在压延铜箔这块的产品也基本上一处于依赖进口的现状，而且价格十分昂贵，压延铜箔生产方面的相关技术国外严格保密。2、输送带接头采用热硫化胶接，以提高可靠性，保持较高的有效强度。
铜箔
CCL及PCB是铜箔应用广泛的领域，铜箔首先和浸渍树脂的粘结片热压制成覆铜箔层压板，紫铜箔，它用于制作印制电路板，ＰＣＢ目前已经成为绝大多数电子产品达到电路互连的不可缺少的主要组成部件。铜箔目前已经成为在电子整机产品中起到支撑、互连元器件作用的PCB的关键材料。它被比喻为电子产品信号与电力传输、沟通的“神经网络”。90年代以来，IT产品技术的发展，促进了PCB朝着多层化、薄型化、高密度化、高速化方向发展，它也要求迈入了技术发展新时期的铜箔更加具有、、高可靠性。而电解铜箔材料在厚度方向上呈现出柱状结晶组织，弯曲时易产生裂纹而断裂。目前，应用于CCL和PCB行业绝大部分是电解铜箔。
未处理铜箔：IPC-4562规定，未处理铜箔包括两种，一种是铜箔表面不进行增强粘接处理，也不进行防锈处理的铜箔(代号N);一种是铜箔表面不进行增强粘接处理但进行防锈处理的铜箔(代号P)。通常，后一种铜箔应用比较广泛，如部分锂离子电池用铜箔、屏蔽铜箔等。钨铜合金主要应用钨铜合金综合了金属钨和铜的优点，其中钨熔点高(钨熔点为3410℃，铁的熔点1534℃)，密度大(钨密度为19。
低轮廓铜箔(LP铜箔)：主要用于多层线路板上，它要求铜箔表面粗糙度比普通铜箔小。IPC-4562中规定LP铜箔两面轮廓度不大于10.2微米。
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